二手 KOKUSAI DD-853V #293615302 待售

KOKUSAI DD-853V
ID: 293615302
晶圓大小: 4"
優質的: 2012
Vertical LPCVD Furnace, 4" 2012 vintage.
KOKUSAI DD-853V是一種先進級擴散爐,用於將元素插入和/或從包括矽和矽基材料在內的各種基板上或從基板上去除元素。多用途KOKUSAI DD 853V作為市場領先的擴散爐之一,服務於多種類型的單晶圓加工和先進的溫度可編程應用。DD-853V配備了Direct N2 Implantation氣箱模塊,允許在高達550°C的溫度下植入,過程之間最長冷卻90秒。它還具有用戶友好的觸摸屏界面,可用於簡單直接的命令,以及一系列可選的「附加」附件,如離子快門、高溫絕緣板、多船顯示器和標準SI閥。附加特性包括其高通量能力、高溫耐久性、靈活配置和低化學活性爐壁。它還提供了一個先進的自動化系統,快速,可重現的設備配方和易於維護。集成的內部氣體安全系統具有精確的氣體混合物和控制能力。緊湊的設計使得在許多不同的處理環境中定位設備具有靈活性,並使其同時適用於單晶片和多晶片工藝平臺。與所有KOKUSAI產品一樣,DD 853V旨在以最經濟高效的方式提供最高的生產效率。KOKUSAI DD-853V是工業、汽車和消費品開發應用的理想選擇,它允許用戶級聯多種配方來處理多種材料和基材,吞吐量快,擁有成本低。它也是多堆叠層和垂直集成電路等應用的理想選擇,也是一些醫療應用的理想選擇。對於擴散過程的總控制,KOKUSAI DD 853V可以配備先進的過程控制系統。這包括自動校準、快速熱循環備份、自動流程操作監控和數據采集等功能,以及通過Internet進行遠程監控和操作的能力。KOKSUAI支持DD-853V兩年有限的制造商保修,並提供廣泛的附加服務、產品修改、維護合同、高質量的備件和技術支持。一個研發版本的DD 853V也是可用的,它允許用戶方便地執行定向實驗。憑借其強大的性能和高精度的結果,KOKUSAI DD-853V是一個可靠的長期解決方案,可滿足任何註重預算的擴散處理需求。KOKUSAI DD具有創新的設計、結構化的模塊化配置和令人印象深刻的先進功能,853V是尋求高效、高通量擴散爐滿足其需求的企業的理想選擇。
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