二手 KOKUSAI Quixace II ALD High-k #9196893 待售

KOKUSAI Quixace II ALD High-k是為高性能原子層沈積（ALD）工藝而設計的擴散爐及配件。它支持包括等離子體增強ALD和高k膜線性沈積在內的一系列工藝功能。該設備結合了強大的沈積能力和過程控制，以實現高效的ALD處理。高k版本的Quixace II ALD爐結合了等離子體和熱沈積，創造出高度保形、致密的高k薄膜，具有非凡的均勻性。該系統自給自足的等離子體源提供高能量的快速沈積和優異的間隙填充性能。此外，內置的溫度控制室在需要時可確保均勻的熱沈積。Quixace II ALD High-k還通過直觀的圖形用戶界面提供用戶友好的操作。動態控制單元根據用戶輸入自動控制和優化沈積參數。此外，機器還提供多種晶片加載模式，用於手動或盒式裝載，並且可以配備外部遠程等離子體源，允許預先清潔或RTO等過程。KOKUSAI Quixace II ALD High-k還具有獨立的清洗工具和耐腐蝕的不銹鋼工藝室，以提高可靠性。該資產配備了先進的診斷，包括質量流控制器、專用儀表、熱電偶、光發射光譜儀和金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）質譜儀。此外，外部熱墻設計允許直接查看晶圓沈積，以及專用的遠程監視器，方便和安全地查看。對於高級流程監控，Quixace II ALD High-k模型還提供了全套數字實時計量和控制。總體而言，KOKUSAI Quixace II ALD High-k設備提供高性能ALD，用於生產具有卓越速度和精確度的均勻高k薄膜。它結合了先進的技術和直觀的界面，既簡單的操作又復雜的過程控制。這個功能強大的系統提供了一個高度可靠和用戶友好的平臺,可提高制造車間的生產率。