二手 KOKUSAI Quixace II ALD Nitride #9397062 待售

KOKUSAI Quixace II ALD氮化物是一種擴散爐，設計用於處理各種薄膜沈積和離子植入過程。它是一種單室擴散爐，旨在為多層薄膜的沈積和最復雜的摻雜型材提供優越的工藝控制。該設備能夠同時處理多達38個晶片，消除等待時間，最大限度地提高生產吞吐量。Quixace II ALD氮化物擴散爐提供多種工藝選擇。它使PECVD和ALD系統結合使用,使用戶能夠以更高的均勻性和更高的可重復性存放所需的材料。加壓系統可以提供更高的沈積速率，使生產吞吐量進一步提高。工藝選項還包括高溫退火和射頻離子植入，允許用戶創建最復雜的摻雜型材。KOKUSAI Quixace II ALD Nitride擴散爐具有自動化的過程控制,可實現精確和可重復的結果。該單元適合於自主操作，允許用戶即時修改和監控各種工藝參數。它還有一個內置的冷卻機器，它允許刀具連續處理高溫過程而不會對晶片造成任何損害。Quixace II ALD Nitride的靈活性使得可以在全自動真空處理線路中添加可選的加載資產並與其他系統集成。這使用戶能夠完全控制基板的生產吞吐量。KOKUSAI還可以提供額外的配件，如用於晶圓處理的機器人臂，以及用於全自動模型的冷凍泵和機械真空泵。總體而言，KOKUSAI Quixace II ALD氮化物擴散爐是制造復雜薄膜和摻雜劑型材的高度先進的設備。其自動化的工藝控制、種類繁多的工藝選擇以及高效處理大批量生產晶片的能力，使其成為薄膜和離子植入應用的理想選擇。