二手 KOKUSAI Quixace II ALD Oxide #293600574 待售

KOKUSAI Quixace II ALD Oxide是一種先進的擴散爐及配件設備，用於材料的快速熱處理，用於半導體工業。該系統以單晶片氧化鋁（Al2O3）反應器為基礎，實現晶片材料的低溫氧化退火。它配備了一個自動大氣控制模塊和一個高溫預蒸發室，對整個操作提供了高度可靠的現場過程控制。先進的Quixace II ALD氧化物擴散爐具有精確的溫度控制單元，能夠在寬廣的溫度範圍內實現準確穩定的熱處理操作。溫度可以以高精度設定，給予高度可重現的熱過程。該機設計可處理多達100毫米或200毫米晶圓，非常適合大容量應用。KOKUSAI Quixace II ALD Oxide還具有低流量、低泄漏真空工具，允許比傳統擴散爐更高的生產率。資產配備了一系列傳感器、能源和基板持有者，為各種應用提供了靈活性。此外，該型號還配備了一個先進的層掃描儀，用於監控被加工層的厚度和結晶結構。Quixace II ALD Oxide還包括真空歧管，允許更低的功耗和改進的工藝重復性。該設備還具有許多安全功能，如溫度傳感器、聯鎖裝置和緊急關閉裝置。KOKUSAI Quixace II ALD Oxide是一個強大高效的材料熱處理平臺,可提供高水平的過程重復性、可靠性和安全性。系統的高級功能使用戶能夠實現高流程吞吐量和優化,從而提高產量。