二手 KOKUSAI Quixace II #9219515 待售

KOKUSAI Quixace II
ID: 9219515
Vertical LPCVD furnaces.
KOKUSAI Quixace II是一種擴散爐及配件,旨在為半導體工業提供高精度的熱處理和晶圓製造服務。KOKUSAI QUIXACE-II提供卓越的熱均勻性和可重復性,同時管理熱負載,對產品質量的影響最小。先進的設備配備了一個獨立、高速、多區的烤箱,可以隨時容納8到16個晶圓。采用雙軸自動校準的感光器,以確保每個烤箱區域內的加熱均勻且可重復。此外,系統還具有先進的溫度控制、監控和記錄功能。Quixace II提供了氮化物擴散和多晶矽沈積等高級應用所需的組合功能。QUIXACE-II具有卓越的溫度均勻性(± 2°C)和可重復性(± 1°C),為先進材料提供了可靠的加工。這是通過烤箱獲得專利的高晶片負載設計實現的,該設計可確保均勻擴散至1微米厚的層,其強大的控制器具有實時熱反饋和閉環調節功能,以實現精確和可重復的結果。KOKUSAI Quixace II還提供了無與倫比的流程靈活性。烤箱可用於單層、多層或雙層擴散處理。此外,可以將設備配置為支持各種放熱、吸熱和隔離過程,從而使用戶能夠自定義其過程以滿足其需求。KOKUSAI QUIXACE-II還配備了手動原位原子力顯微鏡(AFM)功能,使用戶能夠對晶圓表面進行高分辨率測量。這有助於優化熱處理,並有助於動態過程控制以獲得最佳結果。此外,該機器還提供對詳細流程數據的訪問,使用戶可以更好地評估其組件及其最終產品的質量。Quixace II是實現各種半導體元件的高精度和經濟高效熱處理的理想工具。通過利用其先進的溫度控制、監控和記錄功能,用戶可以實現更高的過程可靠性和無與倫比的質量保證。
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