二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN #293666963 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN是一種擴散爐及相關配件，旨在方便摻雜SiN薄膜，用於先進的顯示和成像結構。該設備具有耐高溫和均勻性的氮化矽膜層，可用於多個摻雜擴散過程。它還具有500瓦的熱源，以確保膜層的最佳加熱。這種擴散爐和附件是為快速、高精度地擴散接觸層而建造的。該系統的先進設計有助於減少雜質擴散，這對於保持SiN層的電性能至關重要。該裝置還提供精確的溫度控制和快速的加熱和冷卻循環。Quixace Ultimate ALD SiN機設計用於半導體、顯示屏和成像儀應用，這些應用要求均勻的薄膜層，具有極好的耐磨性和汙染能力。此工具提供三種不同的溫度剖面,以確保摻雜過程的準確性。這些是：正向偏差、反向偏差和斜坡溫度。正向偏置剖面允許在最高溫度過程中最快的溫度上升，而反向偏置則為精確控制用於摻雜劑的試劑層提供了更大的控制。斜坡溫度的特點允許逐漸升高溫度以避免基板損壞。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN還提供多種配件，旨在提高興奮劑處理的準確性，確保處理成功。其中包括用於精確控制熱梯度和提高均勻性的壓力監測儀和微加熱器，以及用於對摻雜劑輪廓進行定量分析和診斷的ALD診斷工具。最後,Quixace Ultimate ALD SiN資產是為低擁有成本和易於操作而設計的。多腔室設計允許在單個或雙腔室中處理多個晶片,而無需使用額外的硬件。易於使用的界面為用戶提供了直觀的界面和過程控制。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN模型是在各種半導體、顯示器和成像應用中對SiN薄膜進行摻雜處理的方便且經濟實惠的替代品。