二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN #293818331 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN是為AdvancedLocal-Oxide jackeled Epitaxial Growth （ALD）設計的擴散爐及配件。該裝置利用局部氧化膜的壓電效應，在晶片上輸送性能均勻的高質量外延膜。SiN擴散爐能夠同時處理多達五個晶圓，並且可以處理高達1000 °C的溫度。該設備針對均質氧化膜和最小電阻率在晶片上進行了優化。擴散爐利用局部氧化物夾套的壓電效應，將外延膜生長至2微米厚。配備75毫米螺距和石英熱源，以提高熱穩定性。懸臂板反向機構可確保均勻的薄膜具有均勻的性能。此外，各向異性氧化產率（AOY）和模式氧化控制（POC）設置可以精確控制氧化膜的生長速率。高能等離子體發生器產生高能等離子體流，與晶圓準直。這種離子轟擊加速了氧化膜的生長，加上晶圓的局部氧化速率。此外，擴散爐還使用微波等離子體，以精確控制提升氧化速率。等離子體發生器也使系統能夠達到每秒5000-10000埃的可控氧化速率。該機組配備了一個特殊的排氣機，設計用於減少空氣汙染。空氣不斷地通過爐子被吸入，腔室壓力不斷地保持在N2/H2大氣中，從而減少了通過空氣受到汙染的機會。過濾器還有助於減少排氣中的氧化物粉塵。該爐設計有一個腔室傾斜工具，以便在維護過程中方便地訪問資產。傾斜室帶有一個內置的安全門鎖，並提供了對模型的多向訪問以進行檢查和維修。Quixace Ultimate ALD SiN的尖端技術使用戶能夠以精確和最小電阻率打造高品質、均勻的外延膜。方便的維修和排氣設備設計進一步提高了該系統的價值，為用戶提供了高效可靠的擴散爐。