二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9208965 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是一種先進的擴散爐,配有專門為二氧化矽（SiO2）薄膜的原子層沈積（ALD）設計的配件。該設備為在一系列基板上沈積高質量的介電薄膜提供了可靠和可重復的工藝。擴散爐包括一個溫度設定範圍的高溫室和一個甚至蒸發材料的旋轉臂，以及一個內置氣體輸送系統，可以精確控制流量和壓力。附件套件提供了SiO2高效ALD所需的所有組件，如氧化鋁反應室、晶片支架、石英熔餅和溫度傳感器。此外,Ultimate ALD SiO2單元包括詳細的工藝參數和配方,並支持手動操作,從而可以完全控制ALD工藝。這種石英鎘使用戶能夠以極好的均勻性沈積薄膜，提供從晶圓到晶圓的一致結果。晶圓架和結構化籃子在蒸發過程中提供均勻的輸送，確保材料在基板的整個表面均勻沈積。氧化鋁反應室確保在ALD工藝中自動接觸所需的氣體混合物，從而形成高質量的矽基薄膜。壓力、溫度、氣體混合物都可以通過機器的靈敏控制進行調節，從而可以優化薄膜性能和吞吐量。Quixace Ultimate ALD SiO2工具滿足實驗室和生產規模應用的需求。即使在最具挑戰性的工業應用中,Ultimate ALD SiO2資產也可提供高可重復性、出色的過程控制以及對沈積過程的全面控制。結合其綜合安全特性，Ultimate ALD SiO2模型是尋求高效、經濟高效的介電薄膜沈積方法的理想選擇。