二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9372767 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是一種先進的原子層沈積（ALD）爐，設計用於沈積二氧化矽（SiO2）的紫外線膜，廣泛應用。它非常適合那些需要高質量薄膜、高生產率和卓越均勻性的客戶。該設備是半導體、MEMS、光伏、微流體和顯示設備的理想選擇。Quixace Ultimate ALD SiO2配備了最先進的多區腔室設計，允許整個沈積區域精確、均勻的溫度控制。這樣可以確保整個基板上的薄膜厚度高度一致，即使使用的材料的反應性差異很大。該系統還具有專用的入口和出口位置，可控制凈化時間和腔室壓力。這些特性使該裝置能夠處理回收時間快、甲烷沈積少的氫和氯基前體。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2機器在大型晶片上具有出色的7納米以下厚度均勻性。它還利用400 Hz頻率延長沈積時間，使其與其他系統相比吞吐量更高。另外，它有足夠的空間容納大基板，直徑可達8英寸。這使得它適合大規模基板上的器件大批量生產。Quixace的自我優化過程控制功能為用戶提供了過程參數的實時數據和反饋，確保了一致的高質量薄膜。該工具還旨在最大限度地減少有害氣體泄漏，防止環境汙染和保護操作員安全。除了Quixace Ultimate ALD SiO2資產外,KOKUSAI還提供了許多可選的附加組件。其中包括高溫計、石英盒和基板支架、射頻電源、電離電壓發生器和旋轉基板支架等附件。這些共同為用戶提供了滿足任何ALD應用程序需求的全面解決方案。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是同級產品中的先進產品，也是最佳型號。它旨在為用戶提供可靠、高效的ALD沈積工藝。對於需要優質薄膜、均勻性好、沈積時間快的客戶來說，是一個絕佳的選擇。Quixace Ultimate ALD SiO2配有可選的附加組件,非常適合任何高級ALD應用程序。