二手 KOKUSAI Vertron DJ-803V #9233086 待售
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ID: 9233086
晶圓大小: 8"
Vertical diffusion furnaces, 8"
Process: Si2N4 / Nitride
Reserved batch operation
Number of wafer / Batch: 100
Wafer shape: Semi notch
Wafer cassette: 8" Plastic
Gas box
Gas sticks:
N2
SiH2Cl2
NH3
Gas flow diagram
Heater:
(4) Heater zones
Maximum temperature: 850°C
Profile TC control thermocouple
Control thermocouple location: Between outer tube and inner tube
Boat rotation
Piezo pressure control
VG for control
Type, range: Baratron
VG for interlock
Type, range: Baratron
No SMIF Interface
No pump
No scrubber
No loadlock.
KOKUSAI Vertron DJ-803V是專門為執行擴散過程而設計的擴散爐。它提供了一個易於使用的平臺,用於在受控大氣層的溫度範圍內處理基板。廣泛應用於半導體和電子工業。Vertron DJ-803V配備了創新的水冷敏感器和固定式淋浴頭,能夠同時處理多種基板和更快地加工。這類爐最適合生產厚度連續均勻的擴散層。爐的大尺寸也允許在冷卻過程中有更大的冷卻速率,確保基材的最高產量。Vertron爐非常適合金屬退火、基材擴散、塗層材料擴散和各種多步驟工藝。它的工作溫度範圍很廣,從20°C到1300°C不等。它還配備了先進的真空設備,能夠保持室內清潔的真空環境。為確保高效運行,KOKUSAI Vertron DJ-803V配備了強大的高頻氣源、高度可靠的石英玻璃加熱器和平衡壓力系統。爐子有一個自動溫度控制單元,保證了整個過程中的精確溫度控制。加熱器功率範圍在1.5到15kW之間,提供精確的功率設定控制。Vertron DJ-803V爐也有兩級獨立控制機。第一級包括直觀的LCD顯示屏和內置的配方內存,便於操作。第二級由PC連接和軟件組成,可用於進一步的安裝和編程目的。KOKUSAI Vertron DJ-803V是執行各種擴散過程的強大而高效的工具。其創新功能確保每個過程都能順利運行,並提供出色的產品產量。其易用性和高精度的加工使其成為工業擴散過程的絕佳選擇。
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