二手 KOKUSAI Vertron III / DJ-803V #9270558 待售
網址複製成功！
ID: 9270558
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
Vertical LPCVD furnace, 8"
Process: LPCVD Nitride
CX2001 System controller
SECS/GEM Communication: Load station
BROOKS SMIF Loader
MIDAS Gas detector: Process gas detection module
N2 Purged load lock
WIP Carrier storage capacity: 8"
Wafer spacing: 6.5 mm
Load size: 125 Slots
Boat rotation
Furnace:
CQ1501A Temperature controller
(4) Zones
D4EX02626 Heater: Mid temperature
Process temperature: 650°C-780°C
Flat zone length: 1200 mm
QUARTZ Process tube material
QUARTZ Wafer boat material
Tube seal: O-Ring seal (Viton)
Temperature control methodology: Closed loop (PID)
Thermocouple type: R-Type
Process gas control system:
Process gases (LPCVD):
HORIBA STEC Z500 MFC
Process gases: DCS, NH3
Other gases: N2
Process pressure control system:
EDWARD QDP80 Vacuum pump
Dry pump capacity: QMB1200
Fore line size: 80
CX1204 Pressure controller
Process manometer
Pressure differential manometer
Pump manometer
Inline cold trap
Exhaust controller
BROOKS SMIF Loader (Left/Right):
Integrated and base mounted with cassette optical light sensor detection
Heater voltage: 280 VAC, Single phase, 42 K A/C
Controllers: 100 VAC, Single phase, 10 K A/C
Clean unit: 100 VAC, Single phase, 10 K A/C
1999 vintage.
KOKUSAI Vertron III/ DJ-803V擴散爐是一種多用途、高度可靠的生產級擴散設備，具有經驗證的KOKUSAI半導體設備質量。該系統采用高功率頂側加熱器（TSH）和底側加熱器（BSH）,溫度均勻,最高可達1180℃,並配有加熱的爐蓋,可實現高溫均勻性和快速熱浸泡時間。KD-101E控制單元具有易於閱讀的液晶觸摸面板顯示屏,可完全控制多達五種可編程配方和各種選項。該爐還包含兩個獨立的冷卻風扇，提供了良好的溫度控制和可重復的結果。此外，DJ-803V還配備了先進的安全功能，包括氧氣傳感器和氧氣水平低於指定設定點的自動關閉。該機提供精確的溫度控制，用於任何應用的精確處理，包括均勻的高溫氧化膜和精確的磷擴散。KOKUSAI VERTRON III DJ-803V的內置平板晶片能力允許對最大直徑6英寸的大型晶片進行有效和均勻的處理。該工具的內部溫度控制使得它非常適合於擴散、氧化和退火等應用，以及具有精確和高度可重復結果的原位摻雜。此外，Vertron III/C DJ-803V還可以配備各種可選配件，以滿足個別客戶的需求。這些選項包括用於清潔爐膛的氮源、不銹鋼晶片載體、低溫裝置、重型起重銷、真空壓力系統和先進的冷卻風扇。可選附件使資產具有高度的通用性,能夠處理各種處理需求。VERTRON III DJ-803V是滿足低溫和高溫擴散以及設備制造需求的理想模型。這種擴散設備的可靠和一致的性能使其成為一種經濟高效的生產級解決方案,符合精確和高質量的擴散處理任務。
還沒有評論