二手 KOKUSAI Vertron III #9078066 待售

KOKUSAI Vertron III是一種擴散爐，專為各種材料的超高真空精密沈積而設計。這種通用、堅固的設備為半導體和MEMS設備制造的關鍵應用提供了可靠的性能。Vertron III（KV3）的溫度範圍為700 °C至1100 °C。它裝有一個氧化鋅殼安全罩，允許它在運行時保持超高真空氣氛。這種特殊的屏蔽使其能夠實現低汙染水平和低顆粒計數，這對於高溫和低溫材料的沈積都是必要的。該系統還具有多種控制功能，如用於控制反應溫度的高溫度反應-質子-轉運蛋白（RQT）單元，以及用於在一次操作中分別控制不同材料層和溫度範圍超過200 °C的多溫區控制程序。該機器還包括一個高溫溢流原子接收面板（OARP），能夠在1100°C以上的溫度下工作，從而有助於確保均勻的沈積結果。該工具還配備了自動晶圓運輸裝載機，可實現自動化裝卸和低壓供應資產，以過濾載氣。此外，該型號還配備了自動沈積控制設備（ADCS），提供對薄膜厚度的精確控制，確保沈積過程穩定。還納入了高精度、實時的測量系統，允許快速、精確和一致的結果。機器中還包括一個溫度控制單元，在整個刀具上創建一個平衡良好的溫度輪廓，並確保均勻的沈積結果。KOKUSAI Vertron III適用於超高真空系統，可在多種基板上生產金屬和非金屬塗層。它具有許多最先進的特點，使其能夠生產高精度礦床，是尋求性能與質量完美結合的制造商的理想選擇。