二手 SVG / THERMCO / AVIZA RVP 9000 #293804381 待售
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單擊可縮放
ID: 293804381
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Vertical LPCVD Furnace, 8"
Main frame
AC Transformer rack
Cable
Heater
Top core assy
Miscellaneous parts
MKS 600 Series TV Controller
MKS 628F 2 Torr C/M
Smoke detector
UPS
Cables
Gas panel (FC-7800CU):
Line / Gas / Flow rate
1 / N2 / 5 SLM
2 / He / 500 SCCM
3 / He / 500 SCCM
4 / BCL3 / He / 100 SCCM
5 / Multi / 4 -1000 SCCM
6 / GEH / 4 - 200 SCCM
7 / SiH / 4 - 200 SCCM
8 / SiH / 4 - 200 SCCM
9 / N2 / 2 SLM
10 / GEH / 4 - 200 SCCM 2 SLM
PC: EPROM
2001 vintage.
SVG/THERMCO/AVIZA RVP-9000是一種高度先進的擴散爐設備，設計用於在集成電路生產中對半導體晶片進行精確可靠的熱處理。這一尖端系統配備了最先進的技術和功能，能夠實現高效和統一的擴散過程，使其成為半導體制造設施的重要工具。SVG RVP-9000的核心是它的高溫爐膛，它能夠達到高達1200攝氏度的溫度，在晶圓表面上具有異常的溫度均勻性。這種穩定和均勻的加熱剖面對於確保一致和可再現的擴散過程至關重要，在這些過程中，摻雜原子被引入半導體材料中以改變其電性能。擴散爐配有一個精密的氣體輸送裝置，能夠在擴散過程中精確控制室內的大氣。這臺機器允許以極低的流速以高精度引入摻雜氣體，例如硼、磷或砷。對氣流和混合比的精確控制確保摻雜劑被精確地摻入半導體材料中，從而產生可靠和高性能的器件。AVIZA RVP-9000采用垂直管設計，與水平爐相比具有若幹優勢，包括增強氣流動力學和減少晶圓汙染。晶片的垂直方向允許改善晶片周圍的氣體循環，確保均勻的摻雜物分布，並將擴散過程中邊緣效應的風險降至最低。除了核心擴散爐的能力外，RVP-9000還配備了一系列配件和先進功能，進一步提升了性能和可用性。其中包括用於晶圓安全殼的高精度石英管、用於微調熱剖面的多區溫度控制工具，以及用於精確摻雜劑引入的先進氣流控制資產。該型號還配備了全面的工藝控制和監控設備，使半導體制造商能夠設置和優化擴散配方，實時監控關鍵工藝參數，確保工藝性能一致。系統的數據記錄和分析功能可實現詳細的流程可追蹤性,並促進流程優化,從而獲得最大的產量和設備性能。總體而言，THERMCO RVP-9000是一個先進的擴散爐單元，結合了先進的技術、精確的控制和可靠的性能，以滿足現代半導體制造的嚴格要求。其堅固的設計、高溫能力和精密的特性使其成為實現高性能集成電路生產所必需的精確、均勻的摻雜擴散過程的不可或缺的工具。
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