二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #293667428 待售
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單擊可縮放
ID: 293667428
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Vertical diffusion furnace, 12"
LTO Poly
Process: DIFF
Gasses: SIH4, SI2H6, 1% PH3/N2, LTO520, CLF3
(2) Load ports
Loader arm
Transfer arm
FUJIKIN Gas box
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Missing parts:
Part number / Description:
Q400-183245 / VAC Line 1
Q400-161162 / VAC Line 2
Q230-021126 / Turn table
Q400-252325 / Flange
Q310-260595 / Outer guide ring
Q460-006564 / Support in ring
(3) Q320-082547 / MFC 16 Board
(4) Q320-060982 / DIO-I/F Board
Q320-083478 / DIO-ILK Board
Q320-072066 / GSR03 Board
Q320-162843 / MC-31255 Board
Q230-133460 / Wafer transfer
Q320-139834 / Board-control
Q400-236002 / Sol valve
Q310-230827 / Fork 1
Q310-230826 / Fork 2
Q310-125642 / Fork 3
Q310-230825 / Fork 4
Q310-230824 / Fork 5
Operating system: Linux
Power supply: 208 V
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON A303i擴散爐是一種具有集成附件的全自動熱擴散設備。它旨在提供半導體生產過程中最高的質量和產量。TEL A303i包括一個強大的沈積室，提供高效和可靠的熱擴散過程。它利用快速熱處理（RTP）快速加熱擴散過程氣體，使其升至預先設定的溫度以上，提供均勻且高度重復的熱擴散過程。放氣速率也是可調的，允許精確的摻雜濃度和對擴散過程的精確控制。該系統包括用於氮氣和工藝氣體輸入的自動快門，以及原位德加和冷卻程序。整個過程由計算機控制室持續監控，確保安全操作。TOKYO ELECTRON A 303 I還具有內置化學氣相沈積（CVD）室。CVD室由一個感應單元組成，該感應單元用於向沈積區引入矽和散熱源。它還具有多個沈積源，以在大面積上提供均勻沈積，以及從源到目的地的均勻摻雜剖面。感應磁場提供均勻性，並允許對沈積參數進行精確控制，以獲得最佳性能。A303i還配備了用於室內無損過程表征的計量平臺。它包括板載特性如壓力傳感器、氣體面板、溫度面板和數碼攝像機，以及室內分析的檢測板。這樣可以對基板參數和工藝步驟進行精確的測量和分析。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I機還提供多種配件和樣品裝載選項。可以配置為接受100毫米至300毫米晶圓，以及200毫米至400毫米平板。此配置為各種生產要求和應用程序提供了最大的靈活性。303 I是高容量和原型生產的理想解決方案,為有效的熱擴散提供了高效可靠的工具。TEL A 303 I以其集成的特性和附件,是半導體生產工藝的完美解決方案。
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