二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9351462 待售

TEL/TOKYO ELECTRON A303i是一種用於晶圓烘烤和快速熱加工的半導體制造工藝的擴散爐及相關配件。每次運行可處理200毫米晶圓,工藝溫度可高達1200 °C。用戶可以根據應用從三種類型的熱源中進行選擇：電阻加熱、交流電（AC）加熱或直流電（DC）。該爐具有廣泛的溫度和流量控制參數，可以配置為滿足工藝要求，包括氣流、壓力和晶圓溫度。該爐還與多種氣體輸送系統兼容，包括集成原位質譜。為了保證晶片均勻性，TEL A303i配備了先進的PID溫度控制設備，用於精確的溫度控制。該高級系統利用高級算法快速準確地調整溫度和工藝參數,確保每次運行過程中晶圓的均勻性。除了其溫度控制單元外，TOKYO ELECTRON A 303 I還使用了多種氣體輸送系統來實現精確的薄膜沈積。氣體面板允許現場監測和精確的流量控制，而集成質譜儀則允許快速繪制工藝大氣的氣體成分/濃度圖。現場采樣也可用於過程控制。TOKYO ELECTRON A303i在操作過程中提供高水平的安全性，有兩個安全聯鎖，當蓋子打開時切斷爐子的電源。安全屏蔽也可作為附加的預防措施,以及在超出限制時通知用戶的可聽警報。該爐還包括若幹視覺和聽覺反饋系統，包括用於分析圖形形式的溫度和過程參數的顯示監視器，以及用於實時控制、記錄和監測過程數據和參數的兩個模塊。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I旨在方便地整合到現有的生產系統中，以及為用戶提供直觀的用戶界面。其先進的軟件允許用戶定制爐子的許多系統，從而方便高效地運行。該爐還設有一個可選的警報機，當超出特定的工藝參數時可以激活。總體而言，A 303 I是一種可靠高效的擴散爐，具有一系列特點，可以滿足半導體制造應用的需要。其先進的溫度控制工具和氣體輸送系統的範圍提供精確和一致的結果，確保整個晶片的均勻性。憑借其直觀的用戶界面和集成的安全系統，A303i可以成為半導體行業的寶貴工具。