二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H #9097233 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-H是專門為加工復合半導體基板而設計的擴散爐及配件設備。它具有各種各樣的安全、自動化和便利功能,使其成為實驗室和生產工廠的理想選擇,這些工廠需要可靠、高效的半導體元件大批量生產運行工具。TEL Alpha 303i-H擴散爐的建造精密，溫度可達1,900°C。它還包括一個先進的加熱控制系統和能夠斜坡速率控制，使用戶能夠實現嚴格的過程控制和可重復性的統一結果。該工藝室用陶瓷窗密封，向晶片提供加壓惰性或反應性氣體流動，相信能提供優越的摻雜均勻性和產率以及優化的晶體生長環境。內部加載單元有助於在快速順序模式下自動加載和卸載工藝室中的基板,並允許在同一負載鎖定周期內同時運行多達三個基板。它還包括其他先進的載荷特性,例如在卡盤和卡盤環上施加均勻壓力的力補償機,這有助於確保基板和卡盤之間的接觸,從而實現均勻的傳熱和優化的工藝穩定性。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-H工具也在設計時考慮了用戶的安全和便利。它包括先進的冷卻水資產,其工藝和冷卻回路位於不同的腔室中,以消除工藝和冷卻回路之間交叉汙染的可能性。該車型還配備了惰性壓力控制設備、緊急停止按鈕、泄漏檢測系統等多項安全功能。除了主擴散爐之外，Alpha 303i-H單元還包括一些用於優化工藝運行的附件。其中包括為氧化和熱氧化過程設計的氧化/擴散機；用於預擴散過程的GASDIFF預擴散工具；和一個蝕刻資產，以便於幹濕蝕刻。該模型還包括用於軟件集成的GASDIFF PC接口和用於簡單直觀操作的LCD觸摸板控制單元。總之，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-H設備是一種先進可靠的擴散爐系統，旨在最大限度地提高用戶的靈活性、安全性和工藝穩定性。它為高效、可重復和高質量生產復合半導體基板提供了各種各樣的特性和配件。