二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC #9381849 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVC是一種用於關鍵半導體器件制造及相關服務的擴散爐。TEL Alpha 303i-KVC設計用於高真空環境，利用先進的氣體管理技術幫助減少氧化物汙染。該爐采用高效的冷墻設計，內部采用鎢包膜，加長的奧裏爾屏蔽層，可聚焦於均勻的溫度梯度，同時減少顆粒損耗。內部鎢包膜還保證了較高的溫度均勻性，並在一個區域到另一個區域的溫度變化最小，這對於精確控制擴散處理是有益的。熔融二氧化矽管的設計特點有助於為高質量的加工環境提供良好的工藝氣流控制。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVC還被設計為提供高效的源和排水疏散，提供不間斷的物料流動以防止氧化，從而提高器件產量。為確保保持極高的源和排水壓力,腔室具有數字壓力和流量控制功能,可選擇5到250毫升的進/出壓力。此外,Alpha 303i-KVC還包括一個CVD耐受性AMAT™環繞感受器支撐,使其成為CVD/ALD應用的理想選擇,並通過抑制顆粒問題來減少腔室維護。CVD耐受性環繞感受器也有助於提高薄膜沈積和蝕刻結果的均勻性。先進的過程控制系統可確保在可重復的過程中進行一致的處理,並為單層和多層應用程序提供易於使用的可編程功能。為了確保最佳的工藝質量和可重復的工藝結果，TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC的設計包括先進的診斷和監測，包括通過閉環壓力調節和負載排序進行實時和後工藝監測。流程控制還包括晶圓級和流程參數的數據記錄,以進行廣泛的報告和分析。總體而言，TEL Alpha 303i-KVC是關鍵半導體器件制造和相關服務的理想擴散爐，為一致和可重復的結果提供了先進的處理環境。