二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN #9381864 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN是一種垂直的單晶圓擴散爐，用於在半導體基板上生長多晶矽、矽散矽、非晶矽等高性能材料。該爐能進行高達1250攝氏度的高溫處理，均勻溫度± 2攝氏度。TEL Alpha 303i-KVCFN提供高吞吐量性能,維護要求低,高性能循環率高達每小時16個晶圓。此外，該爐還配備了具有獨立感受器溫度控制技術的多區感受器，能夠在單個晶圓的基礎上實現精確的溫度控制。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN還采用了低排放、節能的結構和先進的計算機控制設備，提供精確的溫度控制和長期的可靠性。Alpha 303i-KVCFN由於直接的空氣冷卻結構而提供均勻的溫度分布。加熱室底部的空氣溫度由專用低噪聲軸向風扇產生的冷氣流冷卻。這樣可以確保爐子周圍的溫度均勻,從而支持晶圓的生長.此外，它還包括一個隔熱的冷墻，以減少熱量進入和提高溫度均勻性。TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN通過一系列功能提供前所未有的性能。其中包括高端溫度控制系統，以提供溫度範圍寬的精確溫度控制；先進的氣體噴射裝置，有助於保持均勻的溫度和氣體混合；用於精確濃度控制的高精度閥門氣體歧管；坡度高達6000°C/小時,持續溫度高達500°C；矽膜快速成核的P動能源；以及易於維護和升級的模塊化設計。此外，TEL Alpha 303i-KVCFN完全采用非質體技術，以確保清潔安全運行。它包括一臺無氯氣體噴射機，消除了危險副產物六氟化硫（SF6）的形成。最後，通過使用互鎖工具來保證安全，以保證不間斷的操作和防止人員受傷。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN是一種先進的擴散爐，為高性能材料的生長提供均勻的溫度、精確的溫度控制和高通量。其獨特的特點使其成為集成電路和其他半導體器件制造和發展的理想解決方案。