二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride #293807549 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride是一種擴散爐及配件設備，專為高效可靠處理半導體氮化物層而設計。它非常適合生產高性能電源和邏輯設備,並為控制厚度、板材電阻和其他關鍵工藝參數提供了良好的環境。這個擴散爐使用單一源氣體，典型的氮氣，沈積低成本的氮化物薄膜具有極好的均勻性。TEL Alpha 303i Nitride提供全方位的工藝能力，允許沈積均質和多層薄膜。它的高工作溫度（高達1150 °C）確保了高質量的薄膜，而它的低反應物濃度（1 ~ 4% N2）允許更安全，更低的速度增長速度。該系統由一個三區爐和一個下遊熱壁氮化室穩定。此外，還包括一艘低調的石英石英船，以確保樣品表面的均勻性。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride配備了最先進的多通道氣體輸送裝置，用於對工藝參數的精確控制。這臺機器使用戶能夠密切監視和調整反應室中的氣體濃度，提供處理靈活性。除了氣體輸送工具外，Alpha 303i Nitride還提供了先進的真空資產，用於最佳工藝控制。這樣可以精確測量壓力、溫度、汽化率和氣體濃度。TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride還提供了一套監控功能。利用其專門的傳感器、溫度計和離子計，用戶可以輕松監控和調節冷卻器溫度、氣體流量、層厚度以及其他必要的工藝參數。該型號還配備了高精度監控裝置和車載計算機，讓用戶能夠精確控制氮化物沈積過程。TEL Alpha 303i Nitride是尋求高效可靠設備生產優質半導體氮化物層的人的絕佳選擇。其通用的工藝能力、先進的氣體輸送和監控系統以及車載計算機使用戶能夠以無與倫比的精度和精確度高效處理同質和多層薄膜。