二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293635550 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是為離子植入過程而設計的擴散爐及其配套配件。這種高效的器件具有工藝時間短、晶片表面均勻性提高、分布均勻性優良等特點。TEL ALPHA-303I一次最多可容納六個晶片，使得在短時間內處理大量材料成為可能。該爐利用直流電（DC）功率產生均勻的表面濃度，並配有射頻電源以減少等離子體產生。采用獨特的石英室設計，最大限度地減少了晶片表面的汙染。可調控制面板允許操作員調整蒸發器溫度、擴散爐負荷速率、擴散敏感性等參數。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I還具有自動載波兼容性，允許使用具有變化晶圓直徑的兼容工具包。這種靈活性允許在不需要重新加工的情況下處理各種樣品。此外,直觀的用戶界面還可幫助進行故障排除和其他操作活動。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I還包括一個特殊的氮氣大氣模塊，非常適合保護敏感裝置免受汙染和氧化。大氣層模塊允許精確控制大氣層條件，使晶圓產量達到高水平。該爐可設置在單端和雙端操作中，並設有一個用於跟蹤關鍵工藝步驟結果的排氣測井設備。TEL ALPHA-303 I為晶片表面處理提供了多種尖端選擇,包括陽極鍵合、分子鍵合和熔融沈積。這些過程為成功的植入過程提供了必要的清潔度和表面光潔度。此外,還提供了一個自我診斷系統,用於檢測流程中的任何錯誤並立即進行糾正。總體而言，TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I是一種先進的擴散爐及相關配件，旨在在植入過程中提供卓越的性能和結果。該設備包含一個直觀的用戶界面和殘留記錄單元，從而實現高質量的結果和更短的周期時間。這臺機器的靈活性允許在短時間內處理多個晶片，總體效果得到改善。