二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9186622 待售
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ID: 9186622
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: TOZS Anneal (Tones SilaZene)
Main top cover
WVG
I/O Unit
I/O Top cover
Loadport
Back door
Exhaust box
Operation panel
Gas box
Power box
RCU
RCU 1
RCU 2
Heater chamber
RCU Duct
(3) Parts boxes
NDU
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, 1 Phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是為高性能半導體制造而設計的最先進的擴散爐及配件設備。這種先進的工具結合了尖端技術和功能,可精確控制擴散過程,從而能夠生產具有卓越性能特性的高質量半導體器件。TEL ALPHA-303I系統的核心是擴散爐，它是制造半導體器件的關鍵部件。爐子設有多個加熱區，每個加熱區都有獨立的溫度控制能力，允許在擴散過程中進行精確的溫度剖析。這種控制水平對於實現均勻的擴散剖面和最小化整個晶圓表面的過程變化至關重要。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I單元的設計可以容納廣泛的加工氣體和摻雜劑，使擴散過程的定制能夠滿足不同半導體器件應用的具體要求。該機具有先進的氣體輸送系統和質量流量控制器，以確保準確和可重現的氣體流量，這對於實現一致的摻雜水平和設備性能至關重要。除擴散爐外，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303I工具包括一系列附件和外圍設備，以支持高效可靠的半導體制造工藝。這些附件可能包括用於晶片裝卸的負載鎖、用於自動晶片傳輸的晶片處理機器人以及用於實時工藝優化的過程監控系統。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I資產的關鍵特性之一是其先進的過程控制能力。該模型配備了精密的控制算法和軟件，能夠對溫度、氣體流速、壓力等關鍵工藝參數進行實時監控。這使操作員能夠快速識別和糾正與所需工藝條件的偏差,從而確保設備性能一致且可重復。TEL ALPHA-303 I設備也是為易於使用和維護而設計的,它具有用戶友好的界面,可為操作員提供對系統參數的直觀控制。該單元配備了診斷工具和自我校準例程，以確保機器的最佳性能，並盡量減少由於維護或校準活動造成的停機時間。總體而言，ALPHA-303 I是一種多功能、高性能的擴散爐及輔助工具，滿足現代半導體制造的嚴格要求。憑借其先進的技術、精確的工藝控制和可靠的性能,ALPHA-303I是生產具有卓越性能特性的高質量半導體器件的必要工具。
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