二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9213304 待售
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ID: 9213304
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: MTO
Power box
I/O
Heater chamber
Exhaust box
Main top cover
I/O Top cover
Back door
Loadport
Operation panel
(3) Parts boxes
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power supply:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, Single phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是為半導體制造工藝設計的最先進的擴散爐設備。該工具在先進半導體器件的生產中起著至關重要的作用，它促進摻雜材料擴散到矽片中以改變其電性能。TEL ALPHA-303I配備了先進的特性和功能,能夠精確控制擴散過程,從而實現高質量和高性能的半導體器件。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I的一個主要特點是它的高溫能力，使它能夠以非凡的精度和穩定性達到擴散過程所需的溫度。該系統能夠達到最高X攝氏度的溫度，確保摻雜材料在整個晶片表面的有效和均勻擴散。這種精確的溫度控制對於實現所制造的半導體器件所需的電氣特性至關重要。除了溫度控制能力外，Alpha 303i還配備了精密的氣體輸送裝置，能夠將摻雜氣體精確引入工藝室。這種氣體輸送機可以精確控制摻雜氣體的濃度和流量，確保矽片的摻雜均勻一致。該工具還配備了先進的監測和控制系統，使操作員能夠實時監測和調整氣流參數，確保最佳擴散結果。ALPHA-303 I具有水平晶片配置,允許同時處理多個晶片,從而提高半導體制造的吞吐量和效率。該資產還設計用於容納各種尺寸的晶片，使其用途廣泛，適應不同的生產要求。該模型的水平配置確保了熱和摻雜氣體在所有晶片上的均勻分布，從而產生一致和可靠的擴散結果。此外,ALPHA 303 I還配備了一系列安全功能,以確保操作員的保護和制造過程的完整性。該設備設計有全面的安全聯鎖和警報，以防止事故發生，並確保符合行業安全標準。此外,TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I還具有內置診斷和監控系統,可以及早發現任何問題或異常,減少停機時間並最大程度地降低晶圓損壞的風險。總體而言，TEL ALPHA 303 I擴散爐系統是一種先進可靠的半導體制造工藝工具。憑借其精確的溫度控制、先進的氣體輸送裝置、水平晶片配置和全面的安全特性,ALPHA-303I為半導體制造商提供了高效生產高質量、高性能設備所需的能力和控制。
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