二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9304085 待售
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ID: 9304085
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
LPCVD System, 12"
Gases: P-N2, NH3, SiH2CI2, CIF3
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是一種擴散爐及配件,可用於蝕刻和加工半導體晶片。它非常適合制造先進的集成電路、薄膜和其他半導體器件。可用於進行沈積、氧化、退火、離子植入和退火蝕刻過程。TEL ALPHA-303I是一種單晶片管式爐裝設有雙工程室的設備。它有一個主室和一個輔助室。主室用於在多種溫度下進行氧化、沈積和其他半導體器件形成過程,並與晶片反應氣體混合物。輔助室用於進行離子植入、退火和蝕刻過程。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I有一個專利單級晶片加載系統,可以讓晶片快速輕松地放入爐中。它還配備了可編程的電機控制,可以精確控制沈積速率和均勻性。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I是以過程控制的徑向均勻性進行工程設計的,導致優越的過度使用性能。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I的設計具有防止危險氣體積聚的壓力控制單元和調節氧氣水平以確保最大安全的恒溫閥等安全特性。此外,該爐還配備了嵌入式智能系統和先進的診斷系統,如TEL申請專利的Wymar Vision Machine,它檢測各種工藝問題和警報操作員。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i能夠達到250°C至1200 °C的溫度範圍,並有一個能夠一次處理多達七個晶圓的綜合製程室。它還與許多用於半導體生產過程的輔助設備兼容,使其成為研究和批量制造的真正通用的解決方案。總體而言,TEL ALPHA 303 I是一種先進的擴散爐和一套配件,受到許多領先的半導體制造商的信任和使用。它為生產先進集成電路、薄膜和其他半導體器件提供了經濟高效、可靠且統一的解決方案。
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