二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9379788 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
ID: 9379788
晶圓大小: 12"
Furnace, 12" Poly, K Type.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是一種用於半導體加工的雙室高溫熱真空擴散爐。它旨在提供精確的加工條件熱控制,以確保薄膜和其他分子相互作用的均勻性。TEL ALPHA-303I具有兩個可在不同溫度下操作的獨立源/排水室。每個腔室包含一個獨立的加熱系統,具有高溫絕緣和精確的溫度控制。爐的分布範圍為40-1000 °C,均勻度± 5°C。加熱區通過陶瓷管進入,並配有一系列配件,以進行更精確的控制。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I還具有一個主動負載鎖和一個保護性擋板閥,以保持氮氣和其他氣體在處理室內。真空系統能夠在兩個腔室達到小於133 mTorr的基壓。此外,該爐還配備了氣流控制器和真空/壓力計,以便對工藝參數進行精確監測。使用GEMs原位過程控制軟件,可以自動對薄膜沈積的加載和處理階段進行排序。該軟件還提供數據記錄和用於過程控制的一組完整的命令。該爐用RS-232數字接口編制索引,以便通過個人計算機進行遠程控制。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303I還包括多種配件,如晶圓升降機、晶圓轉換箱、船升降機和樣品支架。這些附件可以有效地裝卸物料。該爐還包括一個集成的氦氣泄漏檢測器和一個石墨隔熱外殼,減少傳熱和能耗。最後,TEL Alpha 303i的設計符合所有相關的安全標準,並具有各種可視和可聽的指示燈,以提醒操作員註意任何過程錯誤。該爐還設有氣簾,在操作過程中保護操作員。這種先進的擴散爐非常適合用於半導體和其他需要精確溫度處理的部件的研發和生產。TOKYO ELECTRON ALPHA-303I結合了堅固的結構、精確的溫度控制、可調節的熱區和全面的過程控制軟件,提供了無與倫比的性能水平。
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