二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805DN #293651972 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN是一種高性能擴散爐系統，可用於半導體和MEMS器件的熱處理。該爐配有低壓氮化物工藝，適用於進行廣泛的熱工藝，如退火、吸氣和活躍的大氣工藝。其最高工作溫度為1100 °C，使用可選腔室升級時具有1200 °C的最高溫度能力。TEL Alpha 805DN能夠在幾秒鐘的傾斜時間內,在短時間內達到高達1000 °C的溫度。它還可以方便地接觸基板，以便在安全和清潔的環境中操縱小零件。此外,該系統還提供出色的基板溫度均勻性和低功耗.該爐由堅固的不銹鋼室組成，帶有高純度石英窗和一組石英提升銷。該室的門由可操作的不銹鋼材料制成，可提供較長的使用壽命。提升銷設計用於幫助將單個基板鋪設到工藝晶片上並促進均勻加熱,這有助於確保熱過程中的結果一致。為了促進整個基板表面積的均勻溫度，TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN采用了高效的直接驅動閥。這提供了一種易於使用和可靠的機制，以始終如一地控制工藝參數並提供統一的結果。與其他傳統爐子相比，它的設計目的是保持盡可能高的溫度均勻性。Alpha 805DN還配有幾個附件，包括用於高效清除不良氣體的強大排氣風扇、用於在過程中將晶片固定到位的晶片臂以及用於將氣體引入腔室的高純度二氧化碳入口模塊。為了便於適當的氣體流動，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN安裝了一個預編程的大氣控制器和一組壓力控制閥。這些閥門允許對不同壓力下的進氣和廢氣進行精確和受控的規劃。該系統還配備了使用壽命長的陶瓷絕緣材料，有助於確保適當的熱效率以及快速的加熱和冷卻過程。總體而言,TEL Alpha 805DN是半導體制造應用的理想解決方案。它具有優異的工藝性能、較高的均勻溫度和較低的功耗，使這種高效爐成為滿足熱工藝需求的理想選擇。