二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA #9092855 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA
ID: 9092855
晶圓大小: 8"
Furnace, 8" Process capability: Pyro Zones: 5 Process gases: N2, H2, O2, DCE Controller model: TS4000 Accessories: Atmospheric system, loadsize, 100, VMU heater CE mark: Yes.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA是一種先進的擴散爐,是生產半導體晶片過程中使用的一套特殊配件。該擴散爐采用低壓化學氣相沈積技術,利用特制的腔室和加熱元件將矽的變化引入晶片表面。Alpha 81-ZE由一個單室、一個加熱元件、一個真空系統以及各種控制和電源組成。單室采用圓柱形設計,采用不銹鋼制成,內襯特殊,防止汙染。腔室由采用高頻感應過程的感應式加熱元件加熱。這種感應式加熱元件還具有600°C至1300°C的可調溫度範圍,用於精確控制擴散過程。TEL Alpha 81-ZA由真空系統操作,該系統控制不同氣體的引入,這是擴散過程所必需的。真空系統還控制腔室的壓力,必須保持在特定水平才能獲得最佳結果。此外,還使用各種控制單元和電源根據需要密切監視和調整擴散過程。為保證質量輸出,TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA還設有各種安全措施。這包括溫度傳感器,壓力傳感器,以及超壓和真空閥,以確保安全的條件。Alpha 81-ZA還包括冗余控制,以確保不斷監控和控制擴散過程。作為額外的獎勵,TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA還提供了一套專門的配件,以增強和定制其性能。這些配件包括用於空氣清潔、預防性維護、備件、制造工具以及測量和分析儀器的配件。這些附件中的每一個都確保TEL Alpha 81-ZA在其最佳級別發揮作用,並生產高質量的半導體晶片。綜上所述,TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA是一種先進的擴散爐,是生產半導體晶片過程中使用的一套特殊配件。該擴散爐采用低壓化學氣相沈積(LPCVD)技術,並配有各種控制、電源、安全措施和專用配件。該爐及其提供的許多配件為半導體晶圓生產過程提供了有效可靠的解決方案。
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