二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF #9227418 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S ZVF是一種先進的擴散爐及配件，專門用於半導體工業中的加工晶片。TEL Alpha 8S ZVF設備在CVD和擴散過程中提供了出色的溫度均勻性、高吞吐率和提高的晶圓產率。TOKYO ELECTRON ALPHA 8S ZVF系統的特點包括高溫CVD雙腔室設計、高壓高溫過程腔室以及改善晶圓通量的環境腔室。Alpha 8S ZVF還包括一個額外的直列爐,一個可選的超高真空（UHV）性能模塊,旨在改進氣體分配以改進整個過程控制。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S ZVF的雙腔室設計可實現高溫CVD和快速熱處理（RTP）或快速熱退火（RTA）模塊的兩步過程流,從而提高了步驟覆蓋範圍,提高了過程均勻性,提高了吞吐率。雙室設計還包括一個平均分配加工氣體的石英電淋浴頭，還包括一個低功率晶圓加熱元件，以提高安全性。TEL Alpha 8S ZVF的高壓高溫模塊確保了接觸溫度的保持，同時提供了出色的材料均勻性和高通量的晶圓。該模塊設計用於處理高達600 torr的壓力和高達1400攝氏度的溫度，還包括一個雙石英-碳片區、一個改進的石英-碳金塗層爐和一個閉環氣體分配單元。此外，TOKYO ELECTRON ALPHA 8S ZVF爐設計用於改進過程控制和安全性，為用戶提供精確的氣體溫度控制和更大的過程窗口。Alpha 8S ZVF可選的超高真空（UHV）性能模塊為等離子體和真空輔助工藝提供了更低的壓力環境,從而實現了高達1400攝氏度的低壓超高溫工藝。該模塊還具有單一石英元件設計、用於均勻分配加工氣體的雙石英電淋浴頭以及用於提高安全性的低功率晶圓加熱元件。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S ZVF機設計為半導體工業在CVD和擴散過程中提供卓越的溫度均勻性、高通量率和提高的晶圓產率。該工具的雙腔室設計、高壓、高溫模塊和可選的UHV模塊提供了增強的步長覆蓋範圍、改進的工藝均勻性和更高的吞吐率，確保了晶圓產量的提高和工藝控制的改進。