二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9060551 待售

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圖為 已使用的 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S 待售
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已售出
擴散爐以及配件
製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
Alpha 8S
ID: 9060551
晶圓大小: 8"
優質的: 1993
Nitride Furnace, 8" Interface cassette, 8" 100 wafer load size with 150 upgrade & end-effector available Facilities entry at bottom Wide body style Right sided Brooks 5964 MFCs MFC 1 - 20 slm N2 MFC 2 - 500 sccm N2 MFC 3 - 3 slm N2 MFC 4 - 100 sccm Ar MFC 5 - 2 slm NH3 MFC 6 - 500 sccm SiH2Cl2 Edwards QDP80 /QMB1200 Pump stack SOLA UPS NBest battery back up Heat traced exhaust line with system MKS heated throttle valve model 653B-13162 Main controller is TS 4000Z 1000 C heater core Lip seal: No Inner T / C8 Linear aligner UP/DOWN axis slide motions Single or 5 wafer loading Variable pitch: No Tube, external Nitride 07-00106 Tube, internal Nitride 07-00218 Injector #1 Nitride 12mm 07-00219 Injector #2 Nitride 45mm 07-0220 Injector #3 Nitride 500mm 07-00221 Cover, cap Nitride 07-0225 Pedestal, Nit / All / Ann 07-00227 Pedestal cover, Nit / Al / Ann 07-00227 Boat, Sic 07-00124-00 Process tube, 16" Rapid cooling 3 Phase Voltage: 208V 60 Hz SMIF loader: No N2 purged loadlock: No WIP Carrier storage capacity: 8 End-effector: 1 or 5 Fixed Pitch Boat rotation: Yes Furnace: Temperature controller: Model 120 (5) Zones Heater type: VMM-40-004 Rapid cooling configuration: Yes Tube seal configuration: O-ring Temperature control methodology: PID Thermocouple type: R Process gas control system: General External torch: No H2 Burn off: No Bubbler system: No Gas leak dectection: No Moisture sensor: No Process gases (LPCVD) MFC1 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: N2 Flow rate: 20 SLM MFC2 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: N2 Flow rate: 500 SCCM MFC3 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: N2 Flow rate: 3 SLM MFC4 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: Ar Flow rate: 100 SCCM MFC5 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: NH3 Flow rate: 2 SLM MFC6 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: SiH2Cl2 Flow rate: 500 SCCM MFM1 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: SiH2Cl2 Flow rate: 500 SCCM Vacuum pump: EDWARDS Blower capacity: QMB1200 Dry pump capacity: QDP80 Pressure controller: Varian-TEL LR300 Process manometer: 10 Torr MKS 625A Pressure differential manometer: 1000 Torr MKS 625A Pump manometer: 100 Torr MKS 625A Inline coldtrap: yes 1993 vintage.
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TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S是一種高性能擴散爐及配件，旨在使半導體晶片、薄膜器件、MEMS、光電等此類電子器件得到精確處理。利用TEL ALPHA-8S,即使是最先進的制造工藝也可以實現卓越的精確度和高通量。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S配備了一個緊湊的真空室，容積達95升，以及一個六段石英室襯裏，具有超強的溫度均勻性。這種設計可以快速精確地控制高達1400 °C的溫度，溫度均勻度± 1.2°C。此外，其強制風冷加熱器設備旨在保持和優化長期使用的性能。Alpha 8S配備了高精度氣體分配系統，該系統能夠提供多種氣體，包括氙氣、氦氣、氮氣和氧氣，以及氫氣和氘氣等反應性氣體。這種氣體輸送裝置對於大多數擴散過程至關重要，因為它確保所有氣體一致和可靠地輸送到目標區域。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S還配備了多種高級功能，旨在確保安全性和可靠性。這些特點包括一個臭氧監測儀，用於檢測爐子中任何位置的臭氧濃度，高速壓力控制，以及一個防止溫度過高損害的高速過電流監測機，以及一個用於監測和控制加熱室溫度的紅外加熱器溫度傳感器。TEL ALPHA-8 S是為在潔凈室環境中可靠操作而設計的,其特點包括防止工序室受到汙染的保護外殼,以及用於檢測打開/關閉門窗的光學監控工具。最後，TOKYO ELECTRON ALPHA-8S配備了數據記錄資產，能夠記錄溫度、壓力、工藝時間和其他關鍵工藝參數。可以遠程訪問此數據,並將其保存在PC文件中以供以後分析。綜上所述，TOKYO ELECTRON ALPHA 8S是一種先進的擴散爐及配件，設計用於各種半導體和電子器件類型的精密處理。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8 S具有緊湊的真空室、溫度均勻性、高精度氣體輸送模型和先進的安全特性,非常適合高性能的制造工藝。
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