二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9245683 待售
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已售出
ID: 9245683
優質的: 2000
Furnace
Layout type: U/Box type (L)
System hand: LL
N2 Load lock
Heater type: WMM-40-101 Mid temperature
Torch heater
TEL Integrated SMIF
Process gasses:
Gas 1: N2 (20 SLM)
Gas 2: N2 (5 SLM)
Gas 3: N2 (1 SLM)
Gas 4: NH3 (2 SLM)
Gas 5: DCS (200 SCCM)
Gas 6: O2 (2 SLM)
Gas distribution system:
Basic style: Conventional gas system
Tubing material: Stainless system
Electro-polished tube
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air operated valve
MFC: AERA
Wafer / Cassette handling:
Wafer type: 8" Semi STD-Notch
Cassette type: ENTEGRIS / XT200-01E
(25) Cassette wafers
(16) Cassette storage
1+4 Fork type / Material
Fork variable pitch
Boat / Pedestal:
(150) Production wafers
Boat rotation
System controller: TS-4000Z
Signal tower
General pressure display unit: Pressure Mpa
Cabinet exhaust display unit: Kpa
Furnace temperature controller: M121
Power supply:
Voltage:
208 VAC at 3 Phase
120 VAC at 1 Phase
UPS Input / Output voltage: 120 V / 100 V
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S擴散爐是一種用於半導體制造的最先進的工具。具有廣泛的特點，提供了先進的溫度均勻性和均勻性，允許精確的半導體處理。TEL ALPHA-8S可以LPCVD（低壓化學氣相沈積）或RPCVD（快速壓力化學氣相沈積）模式運行。在LPCVD模式下,晶片的均勻度±為0.5°C,可提供出色的重復性和低溫梯度。在RPCVD模式下，晶片的均勻度±為0.2°C，提供更精確的控制。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S還具有從150°C到1050°C的大範圍溫度，允許多種過程。除了均勻性，ALPHA-8 S還提供快速的溫度斜坡時間。它的熱墻設計為快速加熱和冷卻提供了大型對流單元，允許快速的處理速度。Alpha 8S可以在不到60秒的時間內達到目標溫度，無需手動冷卻腔室。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S也提供多種配件，方便半導體製造。這些包括高壓或低壓氣體歧管系統、石英壓力室、LPCVD反應罐和石英消聲器系統，以避免與熱表面接觸。ALPHA 8 S也有氣密的進料通量，用於將反應物氣體引入系統。這使得反應速率高達55ccmand壓力高達10 bar。TEL Alpha 8S還配備了自動晶圓處理系統，以加快裝卸過程。該系統由一個機械臂和一個預先自動化的手組成，用於晶圓的簡單和可重復的裝卸。TOKYO ELECTRON ALPHA 8S是精密高效半導體加工的理想工具。它提供了極好的溫度均勻性和均勻性以及快速的溫度傾斜時間，並為可靠和受控的半導體制造提供了可靠的配件選擇。
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