二手 TEL / TOKYO ELECTRON APT-2800 #9280808 待售

TEL / TOKYO ELECTRON APT-2800
ID: 9280808
Atmospheric pressure chemical vapor deposition furnace.
TEL/TOKYO ELECTRON APT-2800是一種擴散爐和附件封裝,主要用於半導體制造過程,用於半導體晶片上薄膜的沈積和/或摻雜分離。它具有石英室結構,內置晶圓加熱器,高效的消聲器設計,以及用於精確控制溫度的直接數字過程控制器。包裝是為容納兩個晶圓船在其內部,並結合了創新的氣體設備,以確保均勻的薄膜質量。TEL APT-2800利用電熱平衡開環控制系統,確保擴散室的溫度控制準確,使加熱和冷卻過程快速高效地進行。裝入封裝的晶圓加熱器的可調範圍從300攝氏度到1500攝氏度,加熱均勻性使相鄰晶圓的溫差保持在±攝氏度以下。消聲器提供層流氣體,以確保通過其100-180 mL/min的可調風量在晶片上均勻擴散。一個配置有TEL和JEOL單元包的單一控制面板被整合到單元中,為用戶提供準確的實際時間溫度控制。控制面板還有八種預置的薄膜沈積工藝配方,以確保過程的統一控制。TOKYO ELECTRON APT-2800中創新的氣體機器不僅有利於薄膜在晶片上的精確沈積,而且有助於減少沈積廢物量。其400缸儲氣量能容納高達500 sccm的氣體用於沈積過程,其快速響應氣流調節功能為用戶提供了完整的過程控制。APT-2800的設計考慮了用戶的安全,並且在包裝中集成了多種內置安全功能。這些功能包括機載材料傳感器、電子溫度監視器、Level One警報以及用於防止資產故障的自動斷電工具。綜上所述,TEL/TOKYO ELECTRON APT-2800是一種先進的擴散爐和附件包裝,旨在滿足半導體制造工藝的需要,同時為用戶提供易於使用和安全的氛圍。封裝配有精確的電熱平衡控制模型、高效的消聲器風扇,以及用於均勻膜沈積過程的創新氣體設備。它還設計了一系列安全功能,以確保其用戶的安全。
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