二手 TEL / TOKYO ELECTRON FORMULA High-K #9290897 待售

TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM HIGH-K是來自TEL的擴散爐及相關配件設備，提供高密度、高性能的擴散過程。TEL FORMULA High-K系統是半導體器件處理的理想選擇，提供卓越的均勻性、精度和可重復性。利用詳細的過程控制，TOKYO ELECTRON FORMUM HIGH-K針對特定的器件處理應用，如退火、結、活化和橫向氧化。對於熱或快速熱退火（RTA）應用,FORMULA High-K提供了卓越的均勻性和穩定性。在溫度範圍廣、溫度控制精確的情況下,晶圓/高K的溫度可以有效地進行,部分之間的偏差很小,高K的「緊環路控制」（TLC）特征是將閉環PID（比例積分導數）控制和閉環電阻控制結合起來實現的。該控制算法允許對短過程和長過程進行精確的溫度控制，從而實現了廣泛的熱過程參數。TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA HIGH-K還具有直接驅動氣體註入單元，消除了差壓、質量流和電機速度之間的潛在誤差。這種直接驅動機器還提供了一個堅固和幹凈的排氣工具。直接驅動註入資產減少了由於維護造成的停機時間，提高了流程的統一性。排氣模型利用擴散器最大限度地提高效率，在整個晶片區域提供均勻的氣體分布，即使在高壓水平下也是如此。TEL FORMULA High-K提供多種配件，以滿足特定的設備處理需求。該設備配有各種類型的冷卻器和加熱器，以實現高效的熱控制和工藝均勻性，以及可調節溫度和流量的內部電閘。此外，門閥、氧化熱敏電阻和壓力/流量控制器等配套工具為現代設備處理提供了全面的解決方案。簡而言之，TOKYO ELECTRON FORMULA High-K能夠從頭到尾嚴格控制擴散過程。該系統支持半導體的高密度、高性能擴散處理,提供一系列理想的功能,如精確的溫度控制、直接驅動氣體噴射和堅固的排氣裝置。此外,各種可選附件還為特定的設備處理需求提供了額外的控制和精度,從而確保了設備制造的最佳效果。