二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H #9206531 待售

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ID: 9206531
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
Vertical LPCVD oxide furnace, 12" 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H是微加工公司TEL(TOKYO ELECTRON)的擴散爐及配件。這是一款先進的生產規模高性能熱處理工具,非常適合快速熱處理、擴散退火和氧化過程等應用。其特點包括針對惡劣的加工條件、大晶圓容量的堅固設計 (最多4英寸方形框架和8英寸圓形框架)、提高晶圓均勻性的水平流動能力、用於提高工藝吞吐量的低壓和高溫處理能力、用於快速經濟的晶圓觀測的石英窗口以及通過PC連接接口收集和分析工藝的數據 (PCCI),使其成為一種高度靈活可靠的半導體加工爐。爐體由高級不銹鋼構成,設計目的不僅是防止溫度過低,而且還通過保持整個晶片的均勻溫度分布,在快速熱處理(RTP)任務中提供幫助。其氧化的溫度範圍(700 °C至850 °C)和快速熱處理(800 °C至1600 °C)對於先進的微加工特別有用。此外,控制處理器控制氣體流量、熱速和晶圓冷卻有一個可調的算法來提高均勻性。TEL TELFORFORMULA 1-H的另一個主要特點是其基於比例的加熱和冷卻系統,它通過控制熱和冷卻速率來提高吞吐量。最重要的是,該爐配有一個氧化物均勻性監控器(OUM),一個控制器,用於監控室內每個晶片的氧化物厚度。它能夠評估基板水平的均勻性,使用戶能夠在晶圓仍在腔內時調整工藝參數。最後,TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H附有石英窗,為取樣和觀測晶圓提供了一個方便的視圖。由於石英具有很高的耐溫性和化學惰性,因此也可用於高溫和氧化過程。TELFORFORMULA 1-H是任何半導體工藝的完美工具。憑借其堅固的設計、大晶圓容量和基於比例的加熱和冷卻系統,這是當今市場上最可靠、能力最強的擴散爐之一。
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