二手 TEL / TOKYO ELECTRON VCF-615S #141288 待售

TEL / TOKYO ELECTRON VCF-615S
ID: 141288
Nitride diffusion furnace Main controller: M3200 Temperature controller: M120.
TEL/TOKYO ELECTRON VCF-615S是一種單區垂直管式擴散爐,適合通過熱氧化擴散在高溫半導體基板上造層。它采用陽極氧化鋁制腔室,能夠處理高達1000 °C的溫度和高達600 Torr的壓力。該設備還配備了TEL先進、高效的自動絕緣設備,旨在最大程度地減少熱電阻率和熱量損失。該模型的另一個特點是高速加熱系統,能夠在不到一小時的時間內創建厚度高達8000埃的層。TEL VCF-615S擴散爐包含一個用於加工基板的主室、一個用於主室的冷卻機構和一個用於陽極棒的冷卻機構。主室為垂直不銹鋼擴散管,直徑6英寸,高度24英寸。高溫爐由直流加熱器加熱,並加入陽極棒使加熱速率和溫度均勻。受熱氫引入主室,通過改變受熱氫的流動來控制溫度。TOKYO ELECTRON VCF 615S擴散爐有多種配件,包括溫度監測裝置和壓力計和壓力表等更高的壓力控制裝置。溫度監測機允許隨時精確的溫度讀數,而較高的壓力控制附件則允許用戶同時控制溫度和壓力,從而實現準確的沈積速率。除了這些特性外,VCF 615S擴散爐還設計了一個額外的安全特性,可以防止壓力過低時主室內的氧化。這是通過將氮引入室內並使用壓力計監測壓力來實現的。這種擴散爐可用於矽片氧化、晶體生長、缺陷還原、源漏藥工藝等多種過程。VCF-615S擴散爐是在半導體基板上創建高質量層的高效可靠的工具。該型號的多功能性及其高速加熱工具使其成為各種應用的理想選擇。此外,安全特性、溫度監控資產和壓力控制附件使該模型成為創建具有嚴格公差和準確結果的層的安全有效的選擇。
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