二手 THERMCO 5200 #9076495 待售

ID: 9076495
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
Diffusion furnace / LPCVD, 6" (2) Tubes: Gate oxide (1) Tube: Oxide (1) Tube: poly LPCVD Four tubes with semi-auto boat loader Laminar flow and gas cabinet High temperature element with 40’’ flat zone Tube1: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) Tube2: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) Tube3: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) Tube4: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) 1995 vintage.
THERMCO 5200擴散爐是一種提供半導體基板熱處理的強大而可靠的解決方案。這種批處理型爐專門設計用於摻雜、氮化、氧化、熱氧化、退火等熱處理。該爐包括驅動系統、溫度控制器和加熱元件。該爐的最高溫度為1200 °C,可運行至200毫巴的壓力。它提供了一個令人印象深刻的加熱和冷卻速度與均勻的溫度分布在基板區域。爐體結構采用高品位耐熱材料設計,外殼采用環氧塗層鋼制成,即使在高溫、高壓暴露下也能生存。耐高溫絕緣材料以及室門和其他硬件上的陽極氧化鋁制密封件可確保最大的保溫性和安全性。加熱元件由石墨和鉬/鎢合金包裝物制成,保證了均勻性和強度。5200的真空系統由旋轉真空泵和帶有預真空泵的擴散泵組成。旋轉真空泵將腔室從大氣壓力下排到1毫巴。真空泵將腔室從大氣壓排到20毫巴。擴散泵將腔室從20 mbar下排到10-8 mbar,而吸氣泵即使在腔室關閉時也保持真空,先進的爐子控制系統確保了精確的溫度控制,並設計有液晶屏和各批處理過程的可編程控制。THERMCO 5200提供了一系列附件,用於特定於用戶處理需求的定制操作。其中包括石英片、手動和自動裝載平臺、惰性氣流控制系統、溫度傳感器以及各種保護選項。它還配有觸摸面板控制器,允許在處理周期內進行免提腔室控制和監控。綜上所述,5200擴散爐是基材熱處理的可靠解決方案。其設計允許溫度分布均勻,溫度控制精度高,而腔門等硬件則保證最大保溫。它適用於廣泛的熱處理操作,其配置可以根據用戶的具體需求量身定制。
還沒有評論