二手 TP SOLAR MD 246 #9279732 待售
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ID: 9279732
優質的: 2018
Fast firing IR furnace
Specifications:
Wafer transfer height (mm): 955 ± 35
No of lanes and pitch (mm): 2 Lanes @250 pitch (centre to lane centre), single tunnel
Wafer sizes, mono and multi crystalline (mm): MO (156 x 156), M2 (156.75 x 156.75)
Easily modified for M4 (161.7 x 161.7mm) by belt change
Belt speed range (mm/s): 50 to 170 preferred, 50 to 145 acceptable
Belt speed accuracy (%): ± 0.75
Belt type: Edge contact, NiCr Steel mesh
Wafer repeatability on belt start position to end position (mm): ± 4
Wafer breakage rate (%): 0.05 (~2.8 broken wafers per hour @ 125k wafers per day)
Roller diameter, entry / Exit (mm): 152 / 49 (excluding belt)
Feed direction: Left to right
Length (metres): 9.4 ± 0.1
Height furnace (metres): < 1.7
Height VOC oxidiser (metres): < 1.95
Weight per section (Kgs): Drying (6 legs) < 2100, firing (6 legs) < 1425, cooling (6 legs) < 1250
Functional:
Up time (%): > 98.5
Wafer to wafer temperature uniformity under full load (C): ± 5 (S 250 mm lane pitch and 180 mm pitch within each lane
VOC Oxidiser efficiency (%): > 98%
Wafer exit temperature: < 55°C
Throughput (Mean wafers/hour): > 5600 @ 180 mm wafer pitch
Maximum temperature firing: 1000°C
Maximum temperature drying: 400°C
MTBA (Minutes): > 20
MTTA (Minutes): < 0.5
MTBF (Hours): > 7700
MTTR (Minutes): s30
Power supply: 50/60 Hz, 380-480 VAC, 3 Phase
2018 vintage.
TP SOLAR MD 246是由LPE Equipment Incorporated設計制造的質量擴散爐。隨著先進的設計，擴散爐具有最高質量的結構，以盡量減少熱量損失，以及安全和易用性。該裝置結構堅固，用途廣泛，可容納大小晶片。擴散爐還配有一系列配件，進一步提高了性能和效率。MD 246利用高溫真空擴散技術在晶片上沈積精密層薄膜。這允許用戶以高度可重復的方式將金屬、氧化物、氮化物、氟化物和多矽等一系列薄膜中的任何一種沈積在基板上。這種高溫擴散技術確保了最高水平的可重復性，並允許精確控制薄膜層的尺寸。為了支持這些功能,TP SOLAR MD 246附帶了一系列附件。其中最重要的是冷卻線圈，它是專門為盡量減少熱量損失而設計的。線圈的設計允許晶片均勻冷卻，並確保最高水平的可重復性。擴散爐還配有波紋管以確保安全配合，真空軟管在真空環境下使用時允許密封。此外，該裝置還裝有熱電偶，可在擴散室中精確讀取溫度。除了必備配件外，該單元還附帶了一系列可選配件。其中包括加熱器、蒸發器和冷卻器，每一個都為擴散室增加了進一步的多功能性。再者，該單元還附帶了允許從PC完全控制該單元的軟件，允許用戶在擴散過程中監視和控制溫度和其他變量。總體而言，MD 246是一個極好的擴散爐，提供了一系列的特點。憑借其堅固的結構、高溫真空擴散技術以及一系列配件，該裝置確保了最高水平的可重復性和準確性，同時提供了安全性和易用性。
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