二手 ULVAC H6350 LH / RH #9409629 待售

ULVAC H6350 LH/RH是專門設計用於制造半導體器件的擴散爐和配件。它配備了上、下雙熱壁爐，提供了高度的精度、精度和可重復性。該爐能夠達到1000 °C的最高溫度，工藝溫度範圍為100 °C至900 °C，有效量為475升。LH/RH擴散設備的設計是為了提供一個緊密、均勻、低發射率、最低系統溫度波動的加熱器環境。該爐由全金屬開放式模塊化設計組成，使用戶能夠方便地監測、配置和檢查設備。供電、供氣線路、數據線等工藝部件完全集成連接，保證了安全均勻的擴散塗層工藝。該爐溫度控制範圍大，為+/-50°C，可由內置微處理器精確監控，獲得更精確的結果。該機設計有獨立的熱墻加熱器和保護反射器絕緣頂部表面。這款加熱器按照所有安全標準設計，制造質量最高。H6350 LH/RH非常適合用於制造包括芯片和晶片模具在內的半導體器件,並配備了產品的自動化裝卸。它還與多種工藝氣體兼容，並配備了375 W/cm2的典型裝載率。ULVAC H6350 LH/RH擴散爐及其附件配備了數字邏輯控制器和真空壓力容器,為方便和生產輸出提供了可靠和自動化的真空工具。多路復用數字點火設備利用邏輯材料和自動壓力控制,實現最大效率.LH/RH擴散爐及其附件除了具有可靠和可重復H6350性能外，還采用直觀、高效的控制模型設計，以增強對過程的控制。直觀的用戶界面允許輕松配置和訪問操作數據。中央流程控制器允許對流程參數進行有效的監控和跟蹤，為用戶提供安全有效的生產流程。