二手 RUDOLPH FE VII #293830957 待售

製造商
RUDOLPH
模型
FE VII
ID: 293830957
優質的: 1999
Thickness measurement system Process capability: 11 µm, 13 µm, 15 µm, 18 um, 25 µm, 35 µm Light source: HeNe laser: 632.8 nm Laser diode: 780 nm Spot size: Test site: 12x24 µm De-skew: 125 µm Site by site: 50 µm Pattern recognition: Optional pattern recognition Edge / gray scale detection Manual / auto de-skew Reteach Wafer handling: 3-Axis robots (3) cassettes: 100mm to 200mm Pre-aligner: Virtual flat / notch finder X, Y Centering: ±50 μm Theta: ±0.1° De-skew: ±5 μm Stage: Accuracy: 7 μm over 200mm Repeatability: ±1 µm 1996 vintage.
RUDOLPH FE VII是一種現代橢圓偏光計,旨在測量薄膜和多層堆棧的光學特性。它是薄膜表征、生產控制、太陽能電池研究和質量控制以及薄膜沈積研發的通用工具。RUDOLPH FEVII配備了包括光頭和高精度XY級在內的高分辨率成像系統。結合明亮的LED光源,可以測量任何入射角的薄膜特性。薄膜特性直接從橢圓偏振儀收集的數據中得到。FE-VII使用獨特的單源雙檢測器方法,以兩個不同的入射角同時測量在樣品表面反射的光的強度。利用這種方法可以很容易地確定樣品的折射率、厚度和光學常數。橢圓偏光計還提供了廣泛的應用,如薄膜和大面積表征、太陽能電池分析和晶圓級光學測量。FEVII可用於多種薄膜材料,波長範圍從可見到遠紅外(NIR-NIR)。薄膜厚度範圍為0至5000nm,分辨率低至0.1nm。此外,還可以對薄膜和多層堆棧的各種復雜光學系數進行測量。除了創新的單源雙探測器設計外,FE VII還具有溫度控制的XY級,使得溫度相關測量成為可能。光學裝置補償了熱漂移等環境影響,最大限度地減少了樣品錯位的影響。RUDOLPH FE-VII是研究和開發高精確度生產工藝或對具有薄膜層的光電器件進行質量控制和診斷的完美工具。它是用於測量光學常數和薄膜特性的用戶友好且準確的解決方案。
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