二手 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER A601E #293633801 待售
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ID: 293633801
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE)
4" wafer chuck with LN2 cooling capability and helium wafer backpressure
Process gas setup: He, SF6, C4F8, O2, Ar, CHF3
Bay Voltex water chiller
(2) Alcatel roughing pumps
2021SD for loading chamber
2063 C2 for process chamber
Known issues:
LF5 RF power generator will not apply power.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E是一種蝕刻器/asher,用於快速蝕刻和清潔沈積表面。這個工具在沈積過程中特別有用，例如物理氣相沈積（PVD）和化學氣相沈積（CVD）。ADIXEN A601E在單個集成平臺中提供了高壓蝕刻、預清潔和後清潔功能的獨特組合。ALCATEL A601E由一個主蝕刻室和其他幾個組件組成，包括真空處理室、基板轉移和轉移組件、基底蝕刻室、蝕刻壓力監測儀和後蝕刻室。主蝕刻室容納基板安裝件、加工室等部件。工藝室通常是封閉的，由內室和外室組成，容納惰性的工藝氣體、加熱的等離子體以及接地和/或磁耦合的體罩。靠近頂部的氣體分散器可以允許在內部切換過程氣體。基板傳遞和傳遞元件包括一個基板穿梭器，該穿梭器與工藝室相連。這可用於運輸基材或基材件往返PFEIFFER A601E；基板的轉移可以使用遙控或手動控制。基底蝕刻室在蝕刻過程中保持和測量基板的溫度、壓力、電壓和功率。這有助於防止對基板的損壞並確保最佳蝕刻效果。還包括蝕刻壓力監測儀；它監視主蝕刻室內的壓力，並將其與預定設定點進行比較。此外，還包括一個後蝕刻室。這用於在蝕刻過程完成後清洗基板。對基板的清洗通常是使用高壓氣體，如氮氣或氙氣，以便安全處理蝕刻過程中殘留的任何殘留物。A601E 蝕刻器/asher能夠在單個集成平臺中提供高蝕刻速率和清潔的沈積表面。它提供了對壓力、溫度和電壓的可靠控制，使其成為PVD和CVD工藝中蝕刻和預清洗沈積表面的理想選擇。ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E具有強大的性能、高效率和安全性,是蝕刻和清潔沈積表面的理想選擇。
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