二手 ALPHA PLASMA ASTRO-CA100 #293774362 待售

ALPHA PLASMA ASTRO-CA100是一種高性能的蝕刻器/asher工具，設計用於半導體制造和研究應用中的精密表面處理。這種先進的設備采用等離子體技術，提供高度受控和均勻的蝕刻/灰化工藝，對於在設備制造中取得可靠和可重復的結果至關重要。ASTRO-CA100具有多功能和用戶友好的設計,非常適合各種材料處理需求。該系統占地面積小,界面直觀,提高了操作和維護的簡便性,使操作員能夠以最小的停機時間高效地執行流程開發和生產任務。該單元的核心是一臺大功率射頻等離子體發生器，能夠提供穩定可調的等離子體密度，以適應不同的材料類型和工藝要求。等離子體源得到一臺先進的氣體輸送機的補充，該機能夠精確控制工藝氣體、流速和用於定制等離子體化學和蝕刻/灰分選擇性的混合物。該工具的腔室由高純度材料制成，以盡量減少汙染並確保一致的工藝結果。溫度控制卡盤在加工過程中提供熱穩定性,這對於在整個基板表面實現蝕刻/灰分深度和輪廓的均勻性至關重要。卡盤還使基板加熱或冷卻能夠優化特定應用的工藝條件。ALPHA PLASMA ASTRO-CA100提供了一系列工藝配方和參數設置，以適應各種蝕刻和灰化應用，如光刻膠剝離、介電蝕刻、氧化物去除和材料改性。用戶可以輕松定制工藝條件,如壓力、功率、氣體成分和處理時間,以實現所需的蝕刻/灰分速率和材料去除選擇性。資產配備了高級端點檢測功能,可實時監控流程進度,並在到達所需端點時精確終止蝕刻/灰分步驟。此功能可確保準確的過程控制,並最大程度地減少過度蝕刻,從而導致設備損壞或產量下降。除了精確和控制功能外，ASTRO-CA100還優先考慮用戶安全和環境可持續性。該模型采用內置的安全聯鎖裝置、氣體洗滌機構和廢氣管理系統設計，以防止暴露於有害物質，最大限度地減少對環境的排放。總體而言，ALPHA PLASMA ASTRO-CA100代表了在半導體和研究環境中高精度等離子體蝕刻和灰化應用的尖端解決方案。憑借其創新的設計、可靠的性能和以用戶為中心的特性，這款設備是在先進的設備制造過程中實現高質量成果的不可或缺的工具。