二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 8116 #9226745 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS 8116是為中高批量生產而設計的等離子體蝕刻和asher系統。它能夠處理幾個行業的蝕刻和灰化需求，包括半導體、微電子和MEMS應用。AMAT 8116等離子體蝕刻和洗滌系統具有先進的等離子體蝕刻技術和自上而下的晶圓集成清洗功能,是清潔環境中可靠高效的等離子體蝕刻和洗滌選擇。APPLIED MATERIALS 8116具有單個真空室,每個真空室一次最多可處理8個晶片。每個腔室都有自己的控制器和真空源，使得每個晶片都能獨立蝕刻。這使得蝕刻和asher系統能夠使用不同的蝕刻參數一次處理多個批次，從而提高吞吐量和生產率。8116的特點是使用RF功率進行等離子體產生，以及使用雙等離子體源來防止可以由單一源設計引起的內部反射。它能夠在多種氣體中蝕刻，並能產生廣泛的蝕刻速率和選擇性。AMAT/APPLICED MATERIALS 8116的靈活性使得它可以用於多種關鍵的工業應用，包括材料加工、晶圓級封裝和先進的制造工藝。AMAT 8116還具有自下而上的晶片加載機制和動態腔室壓力，能夠精確控制蝕刻過程。這使得它可以用於生產細膩的結構如氧化矽和氮化物薄膜，以及用於蝕刻高長寬比溝槽。它能夠跨多個晶片執行蝕刻過程，使其成為半導體生產的重要工具。此外，APPLIED MATERIALS 8116包括一個獨特的原位晶圓清洗過程，在每個循環後使用蝕刻氣體清洗腔室。此功能可保持腔室清潔,並防止氣體在蝕刻過程中重新循環。這降低了汙染的風險，並確保蝕刻過程在多個晶片上是一致的。這增加了蝕刻工藝的整體質量和可靠性。總體而言,8116是一個功能強大且可靠的蝕刻和粉刷系統,專為中高批量生產而設計。它能夠同時處理多達8個晶片，並采用先進的技術來確保一致的蝕刻過程和腔室的清潔度。其靈活性和原位晶片清洗特性使其成為半導體行業和許多其他行業中必不可少的工具。