二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #293619549 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330是利用微波等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）技術將各種氧化物和氮化物的薄膜沈積在矽和其他基材上的蝕刻器或灰化器。AMAT 8330提供了一種獨特的功能、工藝一致性和靈活性組合,可以將薄膜成型到任何可達到的厚度（從十分之一埃到幾百納米）,從而能夠用於各種設備和電路制造。APPLIED MATERIALS 8330設計用於高精度、受控的氧化物、氮化物和其他薄膜沈積。它具有高產、離子輔助的電子回旋共振（ECR）源。ECR源提供了增強的功率密度和均勻的沈積速率，使得8330能夠同時支撐多個膜沈積。AMAT/APPLICED MATERIALS 8330配備了兩個能量線圈（多源ECR技術），可以同時為每個基板提供高達3.2 kW的功率，從而大幅提高吞吐量。AMAT 8330包括可變壓力、可變沈積配置,使用戶能夠在薄膜塗層之前對基板表面進行成形。該設備還具有對蝕刻沈積工藝的優化控制，以達到最佳的膜沈積、均勻性和速度。其腔室減少了壁反應性物質和腔室顆粒的沈積，進一步提高了過程的重復性和均勻性。在環境管理方面,APPLIED MATERIALS 8330旨在滿足各種環境合規性標準,包括RoHS、REACH和SASO。這種設備設計在25至350攝氏度的溫度下運行，為薄膜的沈積和保持均勻性提供卓越的溫度控制。此外,8330還集成了一系列附加功能,允許用戶存儲其流程配方並提高流程靈活性。該系統還兼容多種計算機輔助設計（CAD）和計算機輔助工程（CAE）系統,包括AutoCAD和P&E,允許用戶訪問和設計過程配方。總之，AMAT/APPLIED MATERIALS 8330是一種高性能的蝕刻沈積系統，能夠提供卓越的薄膜沈積能力、均勻性和控制性。它受控的環境和強大的ECR源，提供了增強的過程控制，而它的多源能力使得多膜沈積在同一時間。AMAT 8330還集成了多種功能,以確保環境合規性和易用性。