二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9070196 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330蝕刻器是一種基於氣體集群離子束（GCIB）的蝕刻系統，在低溫下運行。此高級設備專為高通量等離子體蝕刻工藝而設計,能夠對蝕刻配置進行卓越控制,從而實現多種應用。與其他蝕刻技術相比,GCIB提供了改進的邊緣輪廓控制、更少的充電、更好的清潔度、更好的均勻性、更小的損壞和更高效的蝕刻。AMAT 8330蝕刻器有一個400毫米的加工室，並配有一個自動化的巨型升降機，便於處理負載和卸載。其1300瓦的射頻功率可確保在蝕刻時更高的吞吐量和精確的輪廓控制。蝕刻器利用各種氣體，如氧、氯、CF4和CHF3，用於各種反應性離子蝕刻（RIE）工藝。工藝參數可以精確調整，如氣體濃度、壓力、流量、射頻功率、偏壓等。由於其多用途的工藝能力，APPLIED MATERIALS 8330蝕刻器可用於蝕刻各種材料，如矽、矽化物、聚酰亞胺等。這種最先進的設備非常適合半導體制造的應用，例如芯片互連，以及復雜的集成電路。也適用於晶體SiGe、III-V化合物、SiNx、氮化物基器件等先進材料的蝕刻。8330蝕刻器帶有用戶友好的圖形用戶界面,可輕松監控和調整過程。它還包括一個原位清潔系統，能夠在進程運行之間保持高度清潔。這樣可以減少停機時間,提高流程穩定性和可重復性。蝕刻器還配備了預測監控能力，對蝕刻過程進行實時分析，確保操作順暢，用戶最大便利。最後，AMAT/APPLIED MATERIALS 8330蝕刻器是半導體技術行業中為蝕刻工藝設計的先進設備。這種低溫蝕刻器在處理各種材料時提供卓越的性能、可重復性和效率。其用戶友好的界面、原位清洗系統和預測性監控功能，使操作平穩，可重復性最佳。因此，AMAT 8330蝕刻器為各種等離子體蝕刻工藝提供了有效的解決方案。