二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3Y Poly #293625534 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher是一種設計用於提供高精度蝕刻和灰化工藝的設備。該系統利用反應性離子蝕刻(RIE)和電感耦合等離子體(ICP)蝕刻能力,以極低的溫度和最小的樣品損傷產生高質量的結果。ICP蝕刻技術可用於一系列應用,如深層反應性離子蝕刻(DRIE)、創建有圖案的表面或將結構蝕刻成基板。它結合了高蝕刻速率、出色的蝕刻選擇性和良好的填充因子,以確保高精度圖樣和蝕刻深度。此外,該裝置還配備了同軸噴嘴灰化器,提供了避免樣品損壞的均勻低溫灰化工藝。AMAT Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher運行一個創新的控制器和軟件套件,可微調蝕刻和灰化參數,包括蝕刻深度和反應物成分、壓力和流量、基板偏置和功率水平以及蝕刻時間。控制器還具有嵌入式工藝鎖,使操作員能夠設置最大壓力和流量以防止損壞樣品。用戶界面直觀且用戶友好,允許快速編程參數以及報告和數據日誌記錄。APPLICED MATERIALS Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher在整個蝕刻和灰化室中提供出色的溫度均勻性,無論基材尺寸如何,都能確保一致的結果。該機設計為減少汙染和冷卻時間,與多種工藝氣體兼容,包括氟基、氯基和氮基。它還使用了200毫米蝕刻半徑的專有密封技術和多個密封單元,以確保包含蝕刻和灰化化學品,從而降低了工藝成本。此外,該工具還包括用戶定義的安全聯鎖,降低了意外接觸化學物質的風險。總體而言,Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher是一項創新資產,可為各種應用程序提供強大的蝕刻和灰化功能。它結合了先進、用戶友好的控制器和軟件套件以及創新的腔室設計和密封模型,提供了卓越的效果,減少了汙染和冷卻時間。
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