二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN HD Gate #9300031 待售

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ID: 9300031
晶圓大小: 12"
優質的: 2014
EPI System, 12" Process: DPHe Type: Decoupled plasma nitride (2) Load ports Remote components: (4) SMC INR-498-012D-X007 Heat exchangers Power supply: 3 Phase, 200-208 V, 50/60 Hz, 23 A (4) EDWARDS iH600 Vacuum pumps Power supply: 200-208 V, 26.7 A, 3-Phase, 60 Hz Chemicals used: 50/50 Di/Glycol Chemicals used: N2, PCW (4) RF Generators (2) IPUP Does not include Hard Disk Drive (HDD) Power supply: 208 VAC, 3-Phase 2014 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN HD Gate是一款最先進的電化學asher/蝕刻器,旨在提高半導體器件加工中的層對層均勻性。與傳統的半導體加工蝕刻和灰分加工技術相比,該蝕刻/灰分具有幾個獨特的優點。AMAT Centura ACP DPN HD Gate是第一款實現高密度門(HDG)技術的幹式光刻劑(DPN) 蝕刻器/asher。HDG技術是基於使用焦點棒來減小蝕刻器/灰門與晶圓表面的間隙。這種設計允許更高的蝕刻速率,更好的均勻性和降低金屬濃度的蝕刻氣體。ACP DPN HDG門還提供了改進的選擇性和表面損傷公差。這種蝕刻器/asher使用低溫等離子體源來創建等離子體雲,它允許晶圓表面各類材料之間的高度選擇性。這種選擇性減少了表面損傷,提高了工藝產量。在整體性能方面,AMAT Centura ACP DPN HDG Gate能夠以令人印象深刻的蝕刻速率、均勻性和選擇性蝕刻蝕刻層。它的高溫處理能力允許在蝕刻過程中實現一致的階躍覆蓋,而其低溫等離子體源則允許實現高性能半導體器件所需的小規模特征。APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN HDG Gate是一款先進的蝕刻器/asher,旨在幫助優化半導體器件加工中的層對層均勻性。與傳統的蝕刻/灰分處理相比,此蝕刻器/灰分可提高蝕刻速率、均勻性、選擇性和表面損壞公差。其HDG技術和低溫等離子體源大大縮小了蝕刻器/灰柵極與晶片表面的間隙,提高了工藝的產率並允許生產高性能半導體器件。
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