二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack #9383657 待售
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已售出
ID: 9383657
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Decoupled plasma nitride deposition system, 12"
DRAM Gate nitridation system
(4) Facet mainframes
(2) D746 DPN Plus
R741 RTP Radiance RP chamber
DPN Plus chamber options:
Generator
Enhanced pulsed RF RTP radiance chamber
Technology option
Open loop tuner
Process application
PNA
DPN Plus gas delivery options:
He 500 SCCM
N2 500 SCCM
RTP Gas panel options:
(10) Regulators and display
Factory interface options
Configurable colored light
Operator access switch
TIRIS With RF E99 Carrier ID
Light curtain
Docking flange shield
Single axis aligner
Remote Options:
Flat panel monitor, 17"
Non standard request
O-Ring type CHEMRAZ chamber C & D
RTP ACP Block II gas panel
NSR Celerity
2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack是一款高性能、高精度的Etcher/Asher，用於亞微米處理。它配備了Direct Plasma Naming （DPN）技術，允許從0.3 µm 2/3的間距到0.12 µm 1/2的間距和在0.09 µm 1/4的間距上的雙圖樣進行精確的選擇性蝕刻和灰化以進行開發。Etcher/Asher也與多種基板兼容，如矽、半導體和金屬氧化物。AMAT Centura ACP DPN Plus Gate Stack提供了一系列用於控制蝕刻/灰化過程的選項。這包括晶片的選擇性和抗蝕性，設定適當的蝕刻條件，控制蝕刻壓力，蝕刻持續時間，蝕刻速率和端點快速準確。它還允許用戶調整過程效率，優化吞吐量和最小化邊緣效果。此外，該系統還可用於蝕刻幾種非選擇性材料，如氧化矽、氮化矽和氧化鋁。該系統還提供了一個用戶友好、直觀的圖形用戶界面，使操作員能夠輕松設置和監控流程。Etcher/Asher可以配置各種附加硬件和軟件選項,例如拋光頭和等離子體查看器。集成的實時套件還提供了一組數據，如計量數據以及過程控制信息，以逐個晶圓的方式監控過程。總之,APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack是一款先進的蝕刻器/Asher,即使是最先進的工藝要求,也能提供精確級別。控制和過程參數的最佳組合、多種兼容材料、直觀的圖形用戶界面以及強大的數據分析工具，使Centura ACP DPN Plus Gate Stack成為需要亞微米精度的行業的完美解決方案。
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