二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly #9353988 待售

ID: 9353988
晶圓大小: 12"
優質的: 2014
Polysilicon etcher, 12" Silicon Axiom HT chamber: CCM Cover Chamber AC Cover (3) Silicon AdvantEdge G5 Mino chambers (3) Mesa sources AdvantEdge G5 Minos swap kit Gas panel: CL2 Purifier Factory interface: Right side storage pod Left side storage pod (3) Load ports Interface A (3) Info pads A or B (3) Operator access switches Front facing intake plenum Remote option: Voltage sag monitor Mainframe lifting sling: FIF kit 2014 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly是為高端集成電路(ICs)設計的先進蝕刻和灰化設備。它是一個功能齊全的系統,在蝕刻過程中提供與反應堆的直接晶圓連接和完全晶圓訪問,從而提供更大的工藝靈活性和先進的工藝控制。該裝置擁有集成的多波長光學觀光機和精密的高精度運動控制,是深亞微米器件光刻的理想選擇。此外,AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly還配備了一個用於精確溫度控制的快速作用多區加熱壓板,以及一系列用於高精度制圖的光束轉向技術。APPLIED MATERIALS CENTURA AP AdvantEdge G5 Mesa Poly配備了高級軟件界面,允許用戶為每個蝕刻或灰化應用程序編程和存儲配方及其他關鍵參數。此界面還使用實時圖形跟蹤工具性能,以使用戶能夠調整參數,從而嚴格控制蝕刻和灰化過程。此外,可以進行廣泛的現場測量,以深入了解蝕刻或灰化過程,並允許用戶相應地優化其配方。Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly利用精密控制的蝕刻工藝來保證統一的初始晶片輪廓和一流的邊緣質量。即使在最先進的過程中,此資產也有助於通過孔和其他精細特征進行精確定位。此外,該型號還支持200 mm至315mm的晶圓直徑,並且與一系列蝕刻氣體完全兼容,根據應用要求提供了最大的靈活性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly憑借嚴密的工藝控制和潔凈室設計,也實現了頂尖的顆粒控制。該設備配備了全面的真空系統,嚴格的機械和化學清洗工藝,精心挑選的蝕刻材料,達到無粒子添加的最高水平,確保更好的裝置性能和壽命。綜上所述,AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly是為高端集成電路設計的頂級蝕刻和灰化設備。該機擁有集成的多波長光學檢視工具、精密控制的蝕刻和先進的軟件界面,可用於全面的過程控制。而且該資產提供了嚴密的粒子控制,與一系列蝕刻氣體完全兼容,使其成為IC生產的理想選擇。
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