二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II Poly #9275303 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II Poly
ID: 9275303
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Poly etcher, 12" EFEM TM (3) DPS2 Axiom AC Rack 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Poly是一款高級蝕刻器/asher,專為返工應用而設計。它基於Centura蝕刻平臺,具有獨特的兩步工藝,能夠快速蝕刻和有效去除各種材料。該設備采用雙旋特性設計,可實現可靠和可重復的處理,並具有均勻性和控制性。這使得蝕刻的方方面面,如選擇性控制、工藝時間、光束功率、氣體混合以及工藝氣體調整都可以精確定制,以最大的蝕刻精度和質量最大化工藝吞吐量。AMAT Centura DPS II Poly具有包含兩個獨立源的雙源反應性離子蝕刻(RIE)源,具有對各自反應堆壓力、等離子體功率和射頻頻率控制的獨立控制。這樣可以確保精確的蝕刻深度控制和均勻的蝕刻。該系統還包括內置過程監控,使用戶能夠定制蝕刻過程,監控質量保證,分析結果以確保最佳結果。應用材料Centura DPS II Poly還具有先進的設計,包括單獨的等離子體源和陽極腔、互補的雙頻電源、精密控制的晶片級和夾緊裝置以及動態氣源輸送機。該工具可以提供均勻的蝕刻輪廓以及蝕刻廣泛材料的能力,包括金屬、陶瓷、聚合物和復合材料。該資產還具有內置的自動化示例處理功能,以及高度可定制的流程和監控工具,為用戶提供了靈活性、可重復的流程,並提高了生產效率。這種先進的蝕刻器/asher設計為產生高dt/dz的比例,為高長寬比結構的蝕刻提供了高度的選擇性。Centura DPS II Poly 蝕刻器/asher專為工業生產線應用而設計,堅固可靠。它是返工應用的理想選擇,具有出色的蝕刻輪廓控制、快速的清理時間和出色的均勻性,可提供高吞吐量。這種蝕刻器/asher為各種材料的快速精確蝕刻提供了絕佳的解決方案。
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