二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS Metal #9247622 待售
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已售出
ID: 9247622
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
DPS Etcher, 8"
Wafer shape: SNNF
EMO Type
Chamber:
Chamber A, B: DPS Metal DTCU chamber
Chamber C, D: ASP+ Chamber
Chamber E: Cool down chamber
Chamber F: Orient chamber
Load lock:
Load lock type: Narrow body
Auto rotation
Cassette type, 8"
Mapping function: FWM
Fast vent option
Vent type: Variable speed
Mainframe:
Platform type: Centura II Etcher
Buffer robot type: VHP
Buffer robot blade: Standard metal
Status light tower
Remote monitor: Table mount
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Buffer robot
No SMIF
(2) Chillers: HX-150 and Steelhead0
Gas panel configuration: VME1
EBARA ET800WS-A Turbo pump
NESLAB System II Heat exchanger
Front panel
Control rack
Local AC rack
Accessories
Cables
DPS R1 DTCU:
OEM-12B3 RF Generator type
GMW-25 RF Generator type
Gas panel configuration: VME1
EBARA ET800WS-A Turbo pump
Throttle valve
Endpoint: Monochromators
ASP+
Process control: Manometer
Microwave
Smart match
Magnetron head
Applicator
VDS Assembly
Sub-system:
(2) AMAT1 Chillers
(2) HX-150 Chillers
Electrical configuration:
Line voltage: 208 V
Full load current: 320 A
Frequency: 50/60 Hz
CE Marked
2000 vintage.
AMAT AMAT/APPLICED MATERIALS Centura DPS Metal是一款先進的蝕刻器/asher設備，為MEMS和半導體器件等精密應用提供最高級別的工藝控制和吞吐量。該系統依靠多頻ICP源和先進的雙模等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）腔室來優化蝕刻工藝。AMAT Centura DPS Metal通過提供始終如一的高產量、高可靠性和高吞吐量,在各種變量下都能獲得優異的產量。APPLIED MATERIALS Centura DPS Metal配備了一系列功能,使用戶能夠獲得最佳的工藝結果。這些特性包括自動壓力和溫度控制、有效的等離子體源和多流輸送單元。自動壓力和溫度控制可實現精確的過程控制,可用於調整特定應用程序的過程參數。此外，有效等離子體源增加蝕刻均勻性，提高蝕刻選擇性。多流輸送機確保合適的氣體和化學品以適當的濃度到達腔室。該工具還可以進行廣泛的蝕刻過程，如選擇性晶片蝕刻、介電蝕刻、後CMP清洗和先進的光刻。每個工藝都是為了利用資產先進的等離子體蝕刻工藝而設計的。而且，該型號能夠蝕刻鋁、碳、矽等各類材料。這種廣泛的加工能力使得設備適合各種應用，包括微腔、MEMS和半導體器件。Centura DPS Metal還提供出色的工藝一致性。這種均勻性確保所有晶片都以一致的方式蝕刻，從而在整個批次中實現一致的產量。此外,系統還包括高級流程監控功能,如實時目視監控和流程氣流控制。這允許用戶詳細查看和監視流程,並提供對流程的控制。總體而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS Metal提供了卓越的工藝控制級別,允許用戶在任何情況下都能獲得高精度結果。通過提供先進的等離子體蝕刻、工藝均勻性和控制，該單元實現了一致和可靠的結果，使其成為高級和精密應用的理想蝕刻解決方案。
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