二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #293820215 待售
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ID: 293820215
Metal etcher
Keyboard
(2) AMAT Heat exchangers
VHP-compatible robot with Fabworks End effectors
Vaporized Hydrogen Peroxide (VHP)
CHA and CHB Assemblies with VAT-TGV Pendulum valves
EBARA Pump interface
VME Rack
(2) PCs
Cart
(2) Monochromators
(2) LCD Monitors
Wall mounts
CENTURA Platform
Load locks
Umbilical cables
Wafer slide-out
Three-way switch
Coax cable
Pumps:
Etch chambers: EBARA A30W
ASP chambers: EBARA A70W
LL: EBARA A30W
Buffer chamber: EBARA A30W
Gases:
Chamber A: Cl₂ / BCl₃ / CHF₃ / Ar / N₂
Chamber B: Cl₂ / BCl₃ / CHF₃ / Ar / N₂
Chamber C: CF₄ / O₂ / N₂ / H₂O
Chamber D: CF₄ / O₂ / N₂ / H₂O.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS（幹等離子體設備）是一種設計用於半導體制造應用的高性能蝕刻/灰度系統。它主要用於介電和多晶矽蝕刻以及圖樣、摻雜沈積和氧氣灰化。AMAT DPS單元由高效等離子體室、三區調溫機和保形氣流通道工具組成。蝕刻/asher室裝有等離子體源和離子源，用於生成等離子體。腔室壁上的兩個氣體入口被用來將蝕刻/asher氣體引入等離子體反應區。它還具有集成的排氣資產和用於優化等離子體性能的高性能組件。室內精確的三區調溫模型保證了溫度波動最小的均勻熱分布。溫度範圍從-100 °C到+200 °C,並且可以根據應用進行變化。保形氣流輸送設備保證了氣體分布的均勻性。氣體沿腔壁的多個點被引入，提供了優化的蝕刻/灰化結果。APPLIED MATERIALS DPS系統具有多種控制選項。它具有用戶友好的圖形用戶界面，可以完全控制所有參數，如等離子體壓力、氣流、溫度和基板偏差。DPS單元具有先進的監控機器，允許用戶實時分析關鍵流程參數。這確保了對蝕刻/灰度處理過程的精確控制。該工具能夠處理多種基材材料如矽、鋁、鈦、銅、鐵和沈積膜如銅和鋁。它可用於多種半導體制造工藝，包括金屬氧化物半導體（MOS）器件、絕緣子上矽（SOI）器件和多級互連。AMAT/APPLIED MATERIALS DPS 蝕刻/asher資產是一種高級的蝕刻和灰化工藝模型,可確保高質量的結果。通過對蝕刻速率和保形氣流通道的精確控制，AMAT DPS設備對有效的蝕刻和灰化過程提供了無與倫比的過程控制。它是各種半導體制造工藝的理想系統。
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