二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for Centura #9411364 待售

AMAT APPLIED MATERIALS Centura Chamber是一種兩級蝕刻/灰分設備,旨在為半導體和MEMS應用中的蝕刻和灰分處理提供最大性能。該系統旨在滿足最苛刻的蝕刻和灰分要求,具有出色的蝕刻灰分比、長期可靠性和高吞吐量。該腔室設計用於精密蝕刻和灰分控制、吞吐量優化和晶圓端效應控制。單元的第一部分是蝕刻室，在此產生等離子體以實現高速率、可重現的蝕刻過程。為了獲得最高的選擇性和產量，通過集成過程控制器實現了對蝕刻過程的準確監測和控制。蝕刻工藝由一個獨立的源提供動力,該源可在所有工藝條件下提供最佳蝕刻性能。機器的第二部分是灰室，它允許高精度的灰分處理，最小的背面損傷和最小的灰分消耗。灰燼控制器在手動和自動化環境中提供一致的性能。為了獲得最大的靈活性,Centura工具可以配置單一或雙腔室配置。雙室資產包括純蝕刻加工室和灰加工室。此模型允許背對背蝕刻和灰分處理,從而提高晶圓吞吐量。該設備具有自動調諧、溫控充氣、帶凈化載氣的多通道淋浴頭和自動基板溫度控制等先進特點。這些功能支持嚴格的過程控制,並有助於確保可重復和可重現的過程。Centura Chamber專為符合SEMI-S2要求的工藝而設計,對腔室壓力、溫度、電子通量和其他工藝因素有嚴格的控制。該系統還具有先進的安全功能，旨在對業務和環境負責。廣泛的組件可實現靈活性和與各種可配置升級的兼容性。這些包括負載鎖定和轉移模塊，機器人，射頻發生器，渦輪分子真空泵和過程氣體凈化。Centura Chamber是一個先進的蝕刻/灰分單元，在單室或雙室配置中提供高精度、可重復和可重現的蝕刻和灰分過程。這臺機器具有最大的工藝靈活性,能夠嚴格控制蝕刻和灰燼參數,確保壓力、溫度和無漂移過程控制。